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更新時(shí)間:2026-07-30 07:49:44瀏覽次數(shù):79次
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微電腦二氧化硫滴定分析儀-HI84100D產(chǎn)品介紹 HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量
微電腦二氧化硫滴定分析儀-HI84100D產(chǎn)品介紹
HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
• 基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電極測(cè)量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
• 人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
微電腦二氧化硫滴定分析儀-HI84100D產(chǎn)品參數(shù)
| 型號(hào) | HI 84100 | ||||||||||||||||||
| 滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 | ||||||||||||||||||
| 滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||||||||||
| 滴定精度 | 讀數(shù)的5% | ||||||||||||||||||
| 取樣量 | 50 mL | ||||||||||||||||||
| ORP電極 | HI 3148B | ||||||||||||||||||
| 供電方式 | 220V/60 Hz;10VA | ||||||||||||||||||
| 使用環(huán)境 | 0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% | ||||||||||||||||||
| 尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm;2200 g | ||||||||||||||||||
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