半導(dǎo)體是電子產(chǎn)品的核心，信息產(chǎn)業(yè)的基石。半導(dǎo)體行業(yè)是國(guó)民經(jīng)濟(jì)支柱性行業(yè)之一，其發(fā)展程度是衡量一個(gè)國(guó)家科技發(fā)展水平的核心指標(biāo)。近年來(lái)，為進(jìn)一步鼓勵(lì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體的整體發(fā)展，打破外國(guó)壟斷，增強(qiáng)科技競(jìng)爭(zhēng)力，政府投入大量資金在國(guó)內(nèi)建造很多集成電路制造廠。
由于半導(dǎo)體行業(yè)的特殊性，芯片的制造、加工工藝非常復(fù)雜，在芯片生產(chǎn)工藝中需要使用大量特殊的高純氣體且氣體毒性很強(qiáng)，這些氣體參與芯片生產(chǎn)后，殘余的少量氣體經(jīng)過(guò)凈化裝置處理后，通過(guò)固定污染源的方式排放至大氣環(huán)境中，如何監(jiān)測(cè)特殊污染物排放量并采取適當(dāng)?shù)目刂拼胧┦前雽?dǎo)體行業(yè)面臨的難點(diǎn)，現(xiàn)有的監(jiān)測(cè)設(shè)備及分析手段無(wú)法用于半導(dǎo)體行業(yè)特殊污染物的檢測(cè)工作。
樂(lè)氏科技自主研發(fā)生產(chǎn)的9100FIR和進(jìn)口產(chǎn)品AtmosFIR兩款傅里葉紅外氣體分析儀，能夠很好地滿足半導(dǎo)體行業(yè)排污監(jiān)測(cè)需要。傅里葉紅外氣體分析儀采用全光譜分析技術(shù)，一臺(tái)分析儀可以檢測(cè)在紅外光譜范圍內(nèi)具有紅外吸收的全部氣體組分，目前儀器開(kāi)放的氣體標(biāo)準(zhǔn)定量紅外譜庫(kù)涵蓋半導(dǎo)體行業(yè)特殊污染物因子，如NF3、SF6、CF4是半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)注的三種氣體污染物，關(guān)于這三種氣體的介紹如下：
NF3是一種強(qiáng)氧化劑，在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在芯片制造有大量運(yùn)用；
SF6是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應(yīng)用于微電子、芯片制造技術(shù)領(lǐng)域；
CF4是微電子工業(yè)中用量的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣和高純氧的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻；
NF3、SF6、CF4是半導(dǎo)體行業(yè)使用最多的三種氣體組分，由于用量很大，且為高純氣，除污染物的排放會(huì)涉及上述氣體組分，氣體的泄漏也會(huì)對(duì)人體和環(huán)境產(chǎn)生巨大影響和毒害。這些氣體組分會(huì)強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，濃度過(guò)高也會(huì)產(chǎn)生窒息的危險(xiǎn)。因此在半導(dǎo)體行業(yè)針對(duì)上述氣體的應(yīng)急監(jiān)測(cè)及固定污染源排放監(jiān)測(cè)顯得尤為重要。
目前樂(lè)氏科技的AtmosFIR已在合肥晶合集成電路有限公司進(jìn)行應(yīng)用，除了常規(guī)的無(wú)機(jī)和有機(jī)氣體組分以外，樂(lè)氏科技額外提供了NF3、SF6、CF4三種氣體的定量模型，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)NF3、SF6、CF4的精準(zhǔn)測(cè)量。
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