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石墨烯制備系統(tǒng)（CVD）

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石墨烯制備系統(tǒng)（CVD）

詳細(xì)介紹

詳細(xì)說(shuō)明：

詳細(xì)說(shuō)明：
MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料，有一個(gè)水平石英管式爐。一個(gè)催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入，在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。快速冷卻對(duì)于形成高質(zhì)量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷卻可以抑制碳過(guò)量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔)；系統(tǒng)配備了快速冷卻系統(tǒng)。管式爐向一側(cè)滑動(dòng)30mm到反應(yīng)爐，加熱的爐可以遠(yuǎn)離樣品，從而快速冷卻樣品。通過(guò)非常簡(jiǎn)單的方式達(dá)到快速冷卻的效果。主要特點(diǎn)： 1）快速加熱和制冷功能； 2）管式爐滑動(dòng)裝置，可使得樣品快速加熱和冷卻； 3）特殊設(shè)計(jì)的測(cè)溫傳感器，可直接監(jiān)測(cè)樣品溫度； 4）支持生長(zhǎng)其他各種碳納米材料（碳納米管、碳納米線等）；技術(shù)指標(biāo)： 1）石英管尺寸：OD50×ID46×L1200mm 2）加熱區(qū)尺寸：φ50×L260mm 3）操作溫度：1200 ℃ 4）正常使用溫度范圍：400-1100 ℃ 5）程序化PID溫度控制 6）三路氣體源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar) 7）旋轉(zhuǎn)真空泵，抽速20L/min 8）熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)樣品溫度 9）快速加熱和制冷系統(tǒng) 10）手動(dòng)管式爐滑動(dòng)系統(tǒng)，滑動(dòng)距離300mm 11）設(shè)備尺寸：W1400×H1000×D500mm