詳細(xì)摘要： 設(shè)備規(guī)格工藝溫度：溫度范圍：RT~500°C（可定制）前驅(qū)體路數(shù)：支持6路前驅(qū)體氣路（可定制)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-10-03 在線留言北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
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北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 設(shè)備規(guī)格工藝溫度：溫度范圍：RT~500°C（可定制）前驅(qū)體路數(shù)：支持6路前驅(qū)體氣路（可定制)
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產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-10-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 工藝可沉積薄膜種類和應(yīng)用場(chǎng)景包括：?High-K介電材料(Al2O3,H2O,ZrO2,PrA1Q,Ta205,La2O3)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 工藝可沉積薄膜種類和應(yīng)用場(chǎng)景包括：?High-K介電材料(Al2O3,H2O,ZrO2,PrA1Q,Ta205,La2O3)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 工藝可沉積薄膜種類和應(yīng)用場(chǎng)景包括：?High-K介電材料(Al2O3,H2O,ZrO2,PrA1Q,Ta205,La2O3)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積系統(tǒng)（ALDP-1000 Pro ）
產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN™ ALD ALD所在地：更新時(shí)間：2022-10-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積系統(tǒng)（ALD P-300 BV）
產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN™ ALD ALD P-300 BV所在地：更新時(shí)間：2022-10-09 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積系統(tǒng)（ ALD P-200 Pro）
產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN™ ALD P所在地：更新時(shí)間：2022-10-08 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積系統(tǒng)（ALD P-300 Advanced）
產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN™ ALD P-300 Advanced所在地：更新時(shí)間：2022-10-07 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積系統(tǒng)（ALDR-200 Advanced）
產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN™ ALD R-200 Advanced所在地：更新時(shí)間：2022-10-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積系統(tǒng)（ ALD R-200 Standard）
產(chǎn)品型號(hào)：PICOSUN™ ALD R-200 Standard所在地：更新時(shí)間：2022-10-05 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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