MiniLab系列柔性薄膜實驗設(shè)備THERMOCERA

MiniLab系列柔性薄膜實驗設(shè)備THERMOCERA

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產(chǎn)品介紹

MiniLab系列柔性薄膜實驗設(shè)備

由于是模塊內(nèi)置型，因此可以根據(jù)所需的薄膜類型和工藝組裝專用機器。

一種靈活的小型實驗裝置，可用于多種目的。

MiniLab研發(fā)實驗設(shè)備系列結(jié)合了各種選項中最少的必要和的模塊來滿足您的需求。我可以。可以以即插即用的方式設(shè)計和組裝大量組件選項和模塊化控制單元，從而實現(xiàn)廣泛的應(yīng)用和在各種研發(fā)開發(fā)現(xiàn)場的使用。我們將根據(jù)您的目的和預(yù)算提出的系統(tǒng)配置。

特征

機身緊湊，節(jié)省空間的設(shè)計

極限真空：5x10-5 帕斯卡

靈活的系統(tǒng)，允許您按照所需的配置組合腔室、組件和控制器

操作簡單：專用控制軟件“IntelliDep"，直觀的操作讓任何人都可以操作。

配方控制（7英寸觸摸屏，或Windows PC操作）：最多可注冊50個膠片配方

ML-GB手套箱薄膜實驗設(shè)備

MiniLab-GB手套箱薄膜實驗設(shè)備

氣相沉積、濺射和退火等操作可以在手套箱內(nèi)無縫執(zhí)行。

MiniLab-026和MiniLab-090的室與手套箱工作臺相連，控制架存放在工作臺下方。一種薄膜實驗裝置，設(shè)計用于與手套箱連接。是將濺射、真空蒸鍍等成膜設(shè)備與手套箱安裝區(qū)域融為一體的節(jié)省空間的裝置。

在OLED（有機EL）、OPV（有機薄膜太陽能電池）、OTFT（有機薄膜太陽能電池）、石墨烯、TMD（過渡金屬二硫化物）等2D材料的沉積過程中，與氧氣和濕氣隔離. 樣品應(yīng)在惰性氣體氣氛中處理。

MiniLab-026/00-GB通過將PVD處理室容納在GB內(nèi)，在緊湊且節(jié)省空間的環(huán)境中實現(xiàn)了有機薄膜實驗的“無氧和水"環(huán)境。

特征

節(jié)省空間。沉積設(shè)備適合手套箱主體的尺寸。

成膜后的樣品不暴露在大氣中，可以在工作臺受控氣氛下進(jìn)行處理。

PVD成膜、旋涂、熱板烘烤等一系列操作可以在GB內(nèi)無縫進(jìn)行，無需暴露在外部空氣中。

nanoCVD-WGP晶圓級石墨烯合成裝置

晶圓級石墨烯合成器

晶圓尺寸兼容的熱 CVD/等離子體 CVD 設(shè)備

基材尺寸：Φ3英寸或Φ4英寸

nanoCVD-WG“CVD法"（化學(xué)氣相沉積）

CVD法是一種已經(jīng)確立的多用途且穩(wěn)定的技術(shù)，也是考慮未來大規(guī)模合成石墨烯和CNT時最現(xiàn)實的方法。我來了。開發(fā)商Moorfield Nanotechnology與英國國家研究院合作多次驗證了這款沉積測試設(shè)備。在研究機構(gòu)的合作下，利用拉曼光譜、SEM、AFM等，已經(jīng)驗證可以從分析數(shù)據(jù)創(chuàng)建高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。

nanoCVD-WPG“等離子體增強 CVD"

反應(yīng)速度快，雜質(zhì)被抑制。它是一種高速、高通量等離子體輔助清潔高質(zhì)量石墨烯的CVD合成方法。

特征

緊湊型設(shè)計：590（寬）x 590（深）x 1050（高）mm

Φ3英寸或Φ4英寸晶圓級石墨烯合成

13.56MHz射頻150W等離子電源（標(biāo)配）

基板加熱階段Max1100℃

冷壁法熱CVD

全自動PLC自動順序控制

用戶友好的 7" 觸摸屏人機界面

多種沉積配方注冊/手動/自動操作

納米爐熱CVD設(shè)備

緊湊尺寸熱壁熱CVD

基材尺寸：Φ2.5英寸或Φ4英寸

納米爐模型。

[熱壁熱CVD設(shè)備]適合基礎(chǔ)研究的小型高性能CVD設(shè)備

石墨烯、碳納米管

氧化鋅納米線

SiO2等絕緣膜

此外，它還可作為熱壁熱 CVD 系統(tǒng)用于廣泛的應(yīng)用。