SAKAGUCHI坂口電熱平面加熱裝置Ex-Laser

SAKAGUCHI坂口電熱平面加熱裝置Ex-Laser

多功能激光平面瞬間加熱裝置EXL-CT-010-DS55，激光平面加熱裝置ELL-CT-050-FC13，桌面型激光平面加熱裝置Ex-Laser，極簡激光氫退火裝置

產(chǎn)品介紹

ExLASER® 是一款多功能激光平面瞬間加熱裝置。

特點

可實現(xiàn)超高速的升溫降溫

2英寸基板一次性均勻加熱

僅可對被加熱對象進行直接加熱

可實現(xiàn)與工藝相匹配的溫度控制

在不加熱氛圍的情況下實現(xiàn)節(jié)能

用途示例

MBE裝置的基板加熱

晶圓退火（碳化硅SiC、砷化鎵GaAS等）

可對多層結構器件的表層進行退火（適用于微細化器件）

激光平面加熱裝置“X-Laser"實現(xiàn)緊湊設計與小面積加熱的“Light"全新登場！

特點

相比傳統(tǒng)的ExLASER，設計更緊湊。

實現(xiàn)小面積（φ0.5英寸）單次加熱。

寬型置物架一體型。帶腳輪可移動。

操作也很簡單。

與傳統(tǒng)機一樣，實現(xiàn)超高速的升溫降溫。

僅對被加熱對象物進行直接加熱。不會加熱周圍環(huán)境。

卓上型 ExLASER®(エックス?レーザー)

先進的加熱系統(tǒng)“激光平面瞬間加熱裝置ExLASER®(Ex-Laser)"推出了桌面型。 憑借其緊湊的設計，可用于研究、測試等各種場景。

特點

卓上型尺寸的緊湊設計

由于加熱部和控制部是一體化的，因此可以進行臺面測試。

由于采用激光加熱，即使在空氣中也能直接加熱。

實現(xiàn)低功耗高功率密度（※）

如果需要真空加熱，可以選擇加裝腔體。

極簡激光氫退火裝置

＜通過原子級平滑化和圓角控制硅微結構，實現(xiàn)MEMS器件在各種領域和應用中的高性能與高可靠性！＞

我們利用東北大學金森義明教授發(fā)明的Atomic-Antialiasing Annealing (AAA) 技術，通過氫氣氛退火實現(xiàn)立體結構的平滑化和圓角控制的新技術，通過H30至R2年度的Sapo-in項目，與東北大學、產(chǎn)業(yè)技術綜合研究所及Minimal Fab推進機構進行了共同開發(fā)并成功產(chǎn)品化。

特點

φ12.5mm晶圓（單片處理）

緊湊的機箱（寬度約30cm）

不需要潔凈室

低功耗（額定AC100V 10A）

超高真空対応（5 × 10 -5 Pa 以下）

急速升降溫（1100℃，2.5秒）

穩(wěn)定的溫度控制（1100℃±0.5℃）

均勻溫度分布（波動（σ/Ave.）0.5%）