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所 在 地深圳市
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更新時間：2023-01-14 07:44:59瀏覽次數(shù)：654次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網(wǎng)低壓化學氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積
低壓化學氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積。
技術(shù)參數(shù)：
1 基片尺寸可定制，可達10 英寸；
2 加熱溫度 1700 ℃，單溫區(qū)或者多溫區(qū)可選；
3 最多可配置6路工藝氣體；
4 配備油泵或者干泵，可選配分子泵；
5 樣品水平，垂直兩種配置模式；
6 可小批量量產(chǎn)；
應用領(lǐng)域：
LPCVD
退火
擴散
氧化
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