河南順博熱處理設(shè)備有限公司
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產(chǎn)品型號S-1200K-CVD
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地鄭州市
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更新時間:2023-06-08 09:34:59瀏覽次數(shù):383次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)開啟式管式爐PECVD系統(tǒng)由高溫管式爐,真空壓強(qiáng)控制系統(tǒng),多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng),過壓保護(hù)及冷凝等部分組成,可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.1mbar混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。
功能特點(diǎn):
在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電,在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜,副產(chǎn)物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉(PECVD)
產(chǎn)品用途:
PECVD開啟式管式爐系統(tǒng)由開啟式管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成,是實(shí)驗(yàn)室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇。
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用
產(chǎn)品參數(shù)
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