深圳市華尹化玻儀器經(jīng)營部
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更新時間：2026-08-07 11:17:10瀏覽次數(shù)：153次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網(wǎng)哈氏槽又稱霍爾槽,赫爾槽,HULLCELL(詳見/html/diandu/hull%20cell.html)是一種對電鍍?nèi)芤杭群唵斡謱嵱玫脑囼灢?，系為R.O.Hul生在1939年所發(fā)明的
哈氏槽又稱霍爾槽,赫爾槽,HULL CELL(詳見/html/diandu/hull%20cell.html)是一種對電鍍?nèi)芤杭群唵斡謱嵱玫脑囼灢?，系?R.O.Hull 先生在 1939 年所發(fā)明的。有 267 CC、534 CC 及 1000 CC 三種型式，但以 267 常用。可用以式驗各種鍍液，在各種電流密度下所呈現(xiàn)的鍍層情形，以找出實際操作的電流密度，屬于一種"經(jīng)驗性"的試驗。通常的做法是將表面故意皺折的陽極，放在圖中的第 2 邊(故意皺折是使其表面積與面對的陰極片相等)，將陰極放在第 4 邊，至于所用之電流密度及時間則隨各種鍍液而不定，須不斷試做以找出標準條件。鍍后可將陰極片的下緣，對準"哈氏標尺"上某一所用電流密度處，即可看出陰極片上區(qū)域所對應(yīng)的實際電流密度。哈氏槽還有另一用途，是將陽極放在第 1 邊而將陰極放在第3 邊，亦可看出陰極片上最左側(cè)低電流區(qū)的鍍層情形。
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