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更新時(shí)間：2025-01-10 09:36:27瀏覽次數(shù)：580次
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該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開(kāi)蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào)；流量計(jì)控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。
一、應(yīng)用領(lǐng)域
該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開(kāi)蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300(max)，樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào);流量計(jì)控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。
二、性能參數(shù)
1. 鍍膜室尺寸：Φ450×500mm鐘罩
2. 鍍膜有效尺寸：Φ300mm
3. 離子轟擊功率：0.6kW
4. 恢復(fù)真空抽氣時(shí)間(min)：<30
5. 蒸發(fā)源數(shù)目：4對(duì)，帶電動(dòng)擋板;
6. 蒸發(fā)源功率：2kW (可選電流、電壓控制);
7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、樣品臺(tái)加熱可選;
8. 工藝氣體：MFC 1路;
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