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OptistatCF-V 參考價(jià)：面議
采用液氦連續(xù)流制冷，樣品處于真空中。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
OptistatDN 參考價(jià)：面議
配備77 K 液氮腔。樣品處于靜態(tài)交換氣中，由頂部裝載至恒溫器中。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
OptistatDN-V 參考價(jià)：面議
配備77 K 液氮腔。樣品處于真空中。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
OptistatDry BLV 參考價(jià)：面議
無(wú)液氦制冷，提供溫度可控的真空樣品測(cè)試環(huán)境，采用的底部換樣方式。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
OptistatDry TLEX 參考價(jià)：面議
無(wú)液氦制冷，提供溫度可控的交換氣氛樣品測(cè)試環(huán)境，可通過(guò)頂部裝載機(jī)制換樣。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
Optosplit II 參考價(jià)：面議
The Optosplit II image splitter is a simple and elegant device for dividing an i...
Pinnacles 50kV Microfocus X-ray Source 參考價(jià)：面議
Developed for applications that require high resolution over a wide-angle field ...
Optosplit III 參考價(jià)：面議
The Optosplit III, a 3-way image splitter is a simple device for dividing an ima...
PlasmaPro 100 ALE 參考價(jià)：面議
As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices the...
PlasmaPro 100 Cobra 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 100系列刻蝕和沉積設(shè)備可安裝多種襯底電極，能夠在很寬的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行工藝，具有200mm單晶圓和多晶圓批處理能力，該工藝模塊可提供具有高度...
PlasmaPro 100 Nano 參考價(jià)：面議
用于生長(zhǎng)1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過(guò)在線催化劑活化和嚴(yán)格的工藝控制，實(shí)現(xiàn)納米材料的高...
PlasmaPro 100 Polaris 參考價(jià)：面議
單晶圓刻蝕技術(shù)的進(jìn)展憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)既能夠滿(mǎn)足性?xún)r(jià)比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。
PlasmaPro 1000 參考價(jià)：面議
大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
PlasmaPro 100 RIE 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 100 RIE模式可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
PlasmaPro 100 PECVD 參考價(jià)：面議
設(shè)計(jì)PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應(yīng)力、電學(xué)特性和濕法化學(xué)刻蝕速率的前提下，生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜。詢(xún)價(jià) 增加到詢(xún)價(jià)列表 在詢(xún)價(jià)...
PlasmaPro 80 ICP 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 80 ICP是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開(kāi)式設(shè)計(jì)允許快...
PlasmaPro 80 ICPCVD 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)...
PlasmaPro 800 PECVD 參考價(jià)：面議
The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour...
PlasmaPro 80 RIE 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)...
PlasmaPro 800 RIE 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
PlasmaPro 100 ICPCVD 參考價(jià)：面議
This ICPCVD process module is designed to produce high quality films at low grow...
PlasmaPro 80 PECVD 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快...
PV Inspector 參考價(jià)：面議
Andors PV Inspector NIR Camera is designed to offer ultimate speed and sensitivi...
Relate 聯(lián)用技術(shù)圖像處理軟件 參考價(jià)：面議
Relate 聯(lián)用技術(shù)圖像處理軟件用于EDS, EBSD, SEM/TEM和AFM等數(shù)據(jù)的高精度聯(lián)用分析，它提供了必要工具來(lái)關(guān)聯(lián)不同顯微鏡的數(shù)據(jù)，可視化二維和三...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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