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日立離子研磨儀器-IM4000PLUS

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更新時間：2026-08-10 21:47:23瀏覽次數(shù)：199次

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廣州市君翔自動化控制設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

IM4000PLUS是支持?jǐn)嗝嫜心ズ推矫嫜心ィ‵latMilling®*1）的混合式離子研磨儀器

詳細(xì)介紹

IM4000PLUS是支持?jǐn)嗝嫜心ズ推矫嫜心ィ‵lat Milling®*1）的混合式離子研磨儀器。借此，可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等，為評價目的樣品的制作。

*1平面研磨（Flat Milling®）是位于日本國內(nèi)的日立有限公司的注冊商標(biāo)。

參數(shù)規(guī)格：

項目	內(nèi)容
	IM4000PLUS	IM4000PLUS
	斷面研磨桿	平面研磨桿
使用氣體	Ar（氬）氣
加速電壓	0 ～ 6 kV
**研磨速度（Si材料）	500 µm/hr*1 以上	-
**樣品尺寸	20（W）× 12（D）× 7（H）mm	Φ50 × 25（H） mm
離子束間歇照射功能	標(biāo)配
尺寸	616（W）× 705（D）× 312（H）mm
重量	機體48 kg＋回轉(zhuǎn)泵28 kg
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS
冷卻溫度調(diào)節(jié)功能	通過液氮間接冷卻樣品、溫度設(shè)定范圍：0°C ～－100°C
選項
空氣隔離樣品夾持器	僅支持?jǐn)嗝嫜心A持器	-
FP版斷面研磨夾持器	100 µm/rotate*2	-
用于加工監(jiān)控的顯微鏡	倍率 15 × ～ 100 × 雙目型、三目型（支持CCD）

產(chǎn)品特點：

高通量的斷面研磨

配備斷面研磨能力達到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質(zhì)材料，也可以高效地制備出斷面樣品。

*2在加速電壓6 kV下，將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時時的**深度

斷面研磨

即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所構(gòu)成的復(fù)合材料，也可以制備出平滑的斷面樣品
優(yōu)化加工條件，減輕損傷
可裝載**20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

斷面研磨的主要用途

制備金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等各種樣品的斷面
制備用于分析開裂和空洞等缺陷的斷面
制備評價、觀察和分析所用的沉積層界面以及結(jié)晶狀態(tài)的斷面

斷面研磨加工原理圖

平面研磨（Flat Milling®）

均勻加工成直徑約為5mm的范圍
可運用于符合其目的的廣泛領(lǐng)域
**可裝載直徑50 mm × 厚度25 mm的樣品
可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動（±60度～±90度的翻轉(zhuǎn)）2種加工方法

平面研磨（Flat Milling®）的主要用途

去除機械研磨中難以消除的細(xì)小劃痕和形變
去除樣品的表層
消除FIB加工的損傷

平面研磨（Flat Milling®）加工原理圖

與日立SEM的樣品結(jié)合

樣品無需從樣品臺取下，就可直接在SEM上進行觀察。
在抽出式的日立SEM上，可按照不同的樣品分別設(shè)置截面、平面研磨桿，因此，在SEM上觀察之后，可根據(jù)需要進行再加工。

冷卻溫度調(diào)節(jié)功能*1

附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS

該功能可有效防止加工過程中，由于離子束照射引發(fā)的樣品的溫度上升，所導(dǎo)致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產(chǎn)生開裂的樣品，通過冷卻溫度調(diào)節(jié)功能可防止其因過度冷卻而產(chǎn)生開裂。

*1此調(diào)節(jié)功能不是IM4000PLUS的標(biāo)配功能，而是配有冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS功能。

樣品：鉛焊料

冷卻研磨常溫研磨

關(guān)鍵詞：研磨儀顯微鏡

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日立離子研磨儀器-IM4000PLUS