scia Multi 680 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是專門為高精度光學(xué)多層膜制造而設(shè)計的，在直徑為Φ680mm以內(nèi)的平面或曲面基底上，鍍制超過100個周期的超薄多層膜，可以鍍高精度均勻膜或漸變膜。配以自動化的樣品裝載loadlock機構(gòu)，可以縮短裝載時間并提高產(chǎn)能。

詳細(xì)介紹

常規(guī)屬性

- 磁控濺射技術(shù)利用等離子體離子轟擊濺射靶材，從而在樣品基底表面沉積薄膜

- 利用同步樣品公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)在曲面襯底上形成均勻或梯度薄膜

- 有6個磁控源，每個磁控源都有單獨的外殼，以獨立供氣并設(shè)定各自的粒子濺射曲線

- 可選預(yù)處理離子源

- 帶有l(wèi)oadlock的樣品載具操作機構(gòu)，具有2個獨立的樣品工位

- 樣品面朝下裝載，以減小粒子污染

系統(tǒng)性能

scia Multi 680
樣品尺寸	Φ680 mm, 130 kg
濺射源	6個矩形磁控源 (600 mm x 90 mm), 可選離子源
濺射模式	DC : 連續(xù) 或脈沖（1 kW）或 RF （1 kW，13.56 MHz）
參考濺射速率	Cr: 45 nm/min, Si: 22 nm/min, Ti: 22 nm/min
均勻性變化	Φ300 mm ：< 0.1 % (σ/mean) , Φ450 mm ：< 0.2 % (σ/mean) .
基礎(chǔ)真空	< 1 x 10-8 mbar
系統(tǒng)尺寸 (W x D x H)	7.90 m x 4.40 m x 3.50 m （不含電控柜與真空泵）
軟件界面	OPC

關(guān)鍵詞：真空泵

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scia Multi 680

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