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scia Coat 500

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產品簡介

scia Coat 500雙離子束濺射鍍膜機，用于精密光學的大尺寸基板的高均勻性鍍膜，菜單控制的沉積過程可保證鍍膜質量的重復性。最多可以允許4種擋板，可以提高均勻性，也可以沉積設計的梯度薄膜。

詳細介紹

常規(guī)屬性

- 主離子源用于濺射靶材到樣品基底上，沉積成膜；次離子源用于樣品表面離子束轟擊清洗或輔助鍍膜。

- 可沉積介質和金屬膜，用于光學濾波器、X射線反射鏡、同步輻射鏡等

- 可沉積漸變膜（比如Gobel 鏡）

- 具有在線基底預處理（刻蝕、清洗、平滑化）功能

- 通過基板旋轉與線性運動的疊加，可以獲得的沉積均勻性

- 轉鼓靶架上最多可有6個水冷靶材料，用于在線更換

- 使用石英晶振和/或光學厚度監(jiān)視器（OTM），菜單式控制多層膜沉積

- 通過線性軸運動控制系統(tǒng)，可以實現梯度薄膜沉積或表面誤差校正

- 可選襯底加熱至250°C以優(yōu)化薄膜應力

系統(tǒng)性能

scia Coat 500
樣品基底尺寸（）	500mm x 300mm
樣品臺與樣品夾具	線性運動速度 0.1 mm/min -- 15 mm/s, 旋轉運動轉速可達300 rpm (max. 300 mm dia.)
濺射離子源	380 mm矩形微波ECR 源 (LIN380-e)
輔助離子源	380 mm矩形微波ECR 源 (LIN380-e)
中和器	熱燈絲 (N-DC) 等離子體橋中和器
靶材轉鼓	最多可裝載6種靶材，400 mm x 200 mm。靶材水冷，可調傾斜。
典型沉積速率	Si: 10 nm/min
均勻性變化	Φ 200 mm ：≤ 0.5 % (σ/mean) 500 mm x 300 mm ：≤ 2.0 % over (σ/mean)
基礎真空	< 5 x 10-8 mbar
系統(tǒng)尺寸 (W x D x H)	3.30 m x 1.70 m x 2.00 m （不含電柜與真空泵）
基本配置	單工作倉
軟件界面	SECS II / GEM, OPC

可配置選項

- 可選單樣品loadlock，適用于Φ 200 mm 樣品。

關鍵詞：監(jiān)視器控制系統(tǒng) 真空泵

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