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顯微光譜工作站GP-58C

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產品型號GP-58C

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更新時間：2025-02-14 08:42:57瀏覽次數(shù)：232次

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產品簡介

產品概述：高速顯微光譜測量工作站GP-58C是在科研級明暗場正置金相顯微鏡XJ-58C基礎上加載高速了顯微光譜儀，是高品質和高精度的顯微光譜分析平臺，具有高信噪比，高靈敏度，能夠快速采集紫外可見近紅外全譜段的透射、反射光譜

詳細介紹

產品概述：
高速顯微光譜測量工作站GP-58C是在科研級明暗場正置金相顯微鏡XJ-58C基礎上加載高速了顯微光譜儀，是高品質和高精度的顯微光譜分析平臺，具有高信噪比，高靈敏度，能夠快速采集紫外—可見—近紅外全譜段的透射、反射光譜。適用于光子晶體研究、納米材料光學性能表征、微加工材料光學性能表征、表面等離子體研究。也可用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，以及材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究?？偡糯蟊稊?shù)：50X-500X
◆主要特點：
1、低雜散技術，高速光譜傳輸技術，實現(xiàn)微妙量級光譜檢測
3、全譜段技術，最寬譜段覆蓋范圍達320—1100nm
4、紫外敏化技術，實現(xiàn)了深紫外光譜探測?？臻g分辨率：最小5X5um2
5、采用了的無限遠光路設計，提供了的光學系統(tǒng)
6、系統(tǒng)配置了電動調焦載物臺，高清相位模塊、高亮度LED照明
7、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰
8、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能
◆典型應用：
1、光子晶體研究、納米材料光學性能表征、微加工材料光學性能表征、表面等離子體研究
2、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗
3、觀察材料表面的某些特性，金屬、礦相內部結構組織

規(guī)格參數(shù)：

序號	名稱	參數(shù)
01	光學系統(tǒng)	無限遠光學系統(tǒng)，鏡筒透鏡f=200mm
02	觀察鏡筒	三目鏡筒（帶有0.3XCCD適配鏡）
03	目鏡	1、超寬視場平場目鏡WF10X/26mm2、WF10X/22mm，帶0.1mm十字分劃板
04	超長工作距離平場無限遠明/暗場物鏡：	5X/NA0.20(W.D=14.47mm)、10X/NA0.25(W.D=16.0mm)、20X/NA0.40(W.D=10.5mm)、50X/NA0.55(W.D=5.1mm)
05	物鏡轉換器	帶DIC插孔的五孔轉換器
06	載物臺	精密測量平臺，工作臺尺寸：150X150mm 移動范圍50mmX50mm，
07	濾色片	濾色片（綠、藍、中性）
08	調焦	電動調焦
09	光源	透射照明： LED燈5W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調反射照明：科勒照明鹵素燈12V50W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調,帶孔徑光闌和視場光闌
10	偏光裝置	檢偏鏡可360度旋轉。起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路
11	光譜模塊	高速顯微光譜測量工作站