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哈爾濱芯明天科技有限公司

壓電掃描臺(tái)在激光直寫系統(tǒng)的應(yīng)用

時(shí)間:2021-7-26 閱讀:1508
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   壓電掃描臺(tái)內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷驅(qū)動(dòng),可以實(shí)現(xiàn)大370μm的掃描范圍,運(yùn)動(dòng)直線性好,可選擇閉環(huán)版本獲得優(yōu)異的線性度與重復(fù)定位精度。壓電掃描臺(tái)采用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),具有大剛度、大出力、大承載等特點(diǎn),大承載達(dá)3.5kg,空載諧振頻率達(dá)600Hz,配套芯明天大功率控制器響應(yīng)時(shí)間高可達(dá)5ms,是精密加工、半導(dǎo)體制造、掃描顯微等應(yīng)用的選擇。壓電掃描臺(tái)在納米光刻實(shí)驗(yàn)中需要對鏡片進(jìn)行高速微納米級(jí)的精密移動(dòng),從而優(yōu)化鏡片讀取的信息。
 
  除了在光刻實(shí)驗(yàn)中有著應(yīng)用,還在激光直寫系統(tǒng)中有著廣泛的應(yīng)用。激光直寫是利用強(qiáng)度可變的激光束對基片表面的抗腐蝕材料實(shí)施變劑量曝光,顯影后在抗腐蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓,激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描,在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計(jì)的任意圖形,從而把設(shè)計(jì)圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。
 
  激光直寫的基本工作流程是:用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生設(shè)計(jì)的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩模結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù);將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù),由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光;經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計(jì)圖形傳遞到基片上。
 
  機(jī)械誤差:光刻過程是指放置在電動(dòng)平臺(tái)上的光刻膠基片隨著電動(dòng)平臺(tái)的轉(zhuǎn)動(dòng)和平移,由聲光調(diào)制器控制光束的強(qiáng)弱對光刻膠進(jìn)行變劑量曝光,通常電動(dòng)平臺(tái)的定位精度達(dá)到微米或亞微米量級(jí)。然而由于慣性、靜摩擦、松動(dòng)等所造成的電動(dòng)平臺(tái)螺距誤差與偏移,將直接影響著系統(tǒng)的性能和光刻元件的質(zhì)量。如何提升實(shí)現(xiàn)平臺(tái)的高精度定位是激光直寫技術(shù)中需要考慮的問題。
 
  壓電納米定位平臺(tái)采用柔性鉸鏈機(jī)構(gòu),鉸鏈機(jī)構(gòu)基于固體的彈性變形,無滾動(dòng)和滑動(dòng)部分,具有零摩擦、高精度的特點(diǎn),并且具有很高的剛度和承載能力。更重要的是,芯明天壓電納米定位臺(tái)的定位精度可達(dá)納米級(jí)甚至亞納米級(jí)。

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