介紹
最近在半導(dǎo)體工業(yè)中，這兩家公司都大直徑的晶片，多層布線圖案的小型化，如在技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)。其中，這是的超大規(guī)模集成電路技術(shù)處理近年來，CMP平坦​​化的晶片表面已引起人們的注意，實(shí)現(xiàn)平坦化的CMP設(shè)備已經(jīng)出現(xiàn)數(shù)。
CMP設(shè)備是一個(gè)設(shè)備進(jìn)行拋光的旋轉(zhuǎn)壓板安裝墊和用于保持晶片的漿料從噴嘴供給旋轉(zhuǎn)磁頭旋轉(zhuǎn)的同時(shí)向?qū)Ψ?，以抑制顆粒的產(chǎn)生，在CMP后一般是的清潔裝置，它是結(jié)合。
在這里，試圖把重點(diǎn)放在如何監(jiān)視漿料的流速保持穩(wěn)定的CMP設(shè)備作為元素。
※本文刊登在八月號(hào)（股）“測(cè)量技術(shù)"2000 Nihonkogyoshuppan。
部署到漿料中的流量測(cè)量
減少維持穩(wěn)定的CMP設(shè)備作為元素的重要性，而不是使用由管道或管筒的旋轉(zhuǎn)速度的滾子泵的壓力控制，監(jiān)測(cè)的漿料流速。此外，葉輪表達(dá)幾乎說到的CMP裝置的流量計(jì)。
然而，泵故障，磨損管，其他損害，往往是堵塞的泥漿沉積，結(jié)塊，沉淀或類似的發(fā)生，發(fā)展成意想不到的麻煩。
因此，轉(zhuǎn)換器SFC-450的工作和UCUF-04小口徑更小直徑的超聲波流量計(jì)UCUF系列半導(dǎo)體清洗設(shè)備在化工行的長(zhǎng)期記錄，我們洗我們專注于CMP漿料流速分鐘的化學(xué)品以外的其他設(shè)備的流量監(jiān)測(cè)和測(cè)量嘗試申請(qǐng)。
通過超聲波流量計(jì)檢測(cè)UCUF-04K零售
-720超聲波流量計(jì)傳感器
特點(diǎn)UCUF-04K/SFC-720
1、移動(dòng)的部件，也沒有保持部，如果沒有保持部也沒有通道葉輪式，渦街流量計(jì)，突起測(cè)定單元，移動(dòng)部件等。
2、清洗結(jié)構(gòu)因?yàn)樗捎昧薔ewPFA的接液部分的，不產(chǎn)生微粒和金屬離子，以及針對(duì)化學(xué)腐蝕性強(qiáng)。更進(jìn)一步，因?yàn)樗耐鈧?cè)配置的超聲波傳感器，清潔理想的結(jié)構(gòu)沒有密封部。
精度高

3、低流量區(qū)域。
為了安放的超聲波壓電元件傳感器在測(cè)量管的兩端，并測(cè)量橫截面的平均流速，以匹配的超聲波和流動(dòng)方向的傳播軸，除去的流動(dòng)速度分布的流體的擾動(dòng)的影響。此外，它可以非常低流量區(qū)域的測(cè)量精度高，因?yàn)樗堑玫阶銐虻膫鞑r(shí)間差，在有足夠的長(zhǎng)度，在測(cè)量管道直徑小。 （測(cè)量10mL/min時(shí)）
精度高，即使在高粘度流體