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典型應(yīng)用：顯微成像、生物工程、醫(yī)療技術(shù)、3D成像、自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)、分層圖像采集、光學(xué)顯微鏡（共聚焦顯微鏡術(shù)）

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典型應(yīng)用：顯微成像、生物工程、醫(yī)療技術(shù)、3D成像、自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)、分層圖像采集、光學(xué)顯微鏡（共聚焦顯微鏡術(shù)）

NS-X700-01超大行程X軸納米定位臺(tái)典型應(yīng)用：顯微成像、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)、光柵刻寫、半導(dǎo)體加工、生物材料分析

典型應(yīng)用：顯微成像、光學(xué)移相、生物材料分析、光學(xué)、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)、激光領(lǐng)域、測(cè)量、半導(dǎo)體加工、光柵刻寫

典型應(yīng)用：顯微成像、光學(xué)計(jì)量、激光加工、高精度自動(dòng)對(duì)焦、物鏡轉(zhuǎn)塔調(diào)整及掃描

典型應(yīng)用：顯微成像、晶圓切割、微電子精密加工、物鏡調(diào)焦及掃描、可定制不同的物鏡接口

典型應(yīng)用：顯微成像、晶圓切割、微電子精密加工、物鏡調(diào)焦及掃描、可更換不同的物鏡接口

典型應(yīng)用：晶圓切割、顯微成像、微電子精密加工、物鏡調(diào)焦及掃描、可定制不同的物鏡接口

典型應(yīng)用：光學(xué)計(jì)量、顯微成像、激光加工、光學(xué)干涉測(cè)量、高精度自動(dòng)對(duì)焦、白光及單色光干涉

三英精控納米臺(tái)特點(diǎn)平：得益于的硬件設(shè)計(jì)，有效地減少三維偶聯(lián)影響，保證納米臺(tái)全行程的平整度

典型應(yīng)用：半導(dǎo)體、表面檢測(cè)、光學(xué)探針、AFM/SPM/SNOM、高密度存儲(chǔ)

典型應(yīng)用：表面檢測(cè)；顯微成像；激光技術(shù)；半導(dǎo)體加工與測(cè)試；高密度光存儲(chǔ)與磁存儲(chǔ)

典型應(yīng)用：顯微成像、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)、表面檢測(cè)、高密度存儲(chǔ)、半導(dǎo)體加工

典型應(yīng)用：顯微成像、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)、表面檢測(cè)、高密度存儲(chǔ)、半導(dǎo)體加工

典型應(yīng)用：紅外熱成像系統(tǒng)；激光定位；光學(xué)對(duì)準(zhǔn)；光學(xué)測(cè)量表面掃描；（抵制高低溫及沖擊振動(dòng)）

典型應(yīng)用：AFM串聯(lián)掃描器、電子學(xué)、光學(xué)、微機(jī)械裝置、新型計(jì)算機(jī)等；大行程、高速、高精度的納米定位系統(tǒng)在現(xiàn)代工業(yè)制造和科學(xué)研究領(lǐng)域

典型應(yīng)用：顯微成像、材料分析、AFM/SPM、光學(xué)掃描、半導(dǎo)體加工

典型應(yīng)用：激光加工/表面分析/顯微成像/光學(xué)對(duì)準(zhǔn)/光學(xué)測(cè)量納米位移系統(tǒng)的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，從原子力顯微鏡、精密光學(xué)設(shè)備、半導(dǎo)體設(shè)備到各種*行業(yè)

典型應(yīng)用：顯微成像、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)、表面檢測(cè)、高密度存儲(chǔ)、半導(dǎo)體加工