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北京海富達(dá)科技有限公司
中級會(huì)員 | 第18年

18910282262

當(dāng)前位置:北京海富達(dá)科技有限公司>>實(shí)驗(yàn)室設(shè)備>>檢測儀>> 型號:ZX/SD-900M磁控濺射儀庫號:M413671

磁控濺射儀庫號:M413671

參   考   價(jià): ¥ 39850

訂  貨  量: ≥1 件

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號型號:ZX/SD-900M

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時(shí)間:2026-05-25 14:58:34瀏覽次數(shù):641次

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磁控濺射儀庫號:M413671

磁控濺射儀 型號:ZX/SD-900M庫號:M413671 查看hh

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原理:

在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度zeng大,從而磁控濺射速率得到提高,可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另

磁控濺射儀庫號:M413671

磁控濺射儀 型號:ZX/SD-900M庫號:M413671   查看hh

midwest-group

原理:

在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度zeng大,從而磁控濺射速率得到提高,可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能|量,因而可以

改善薄膜的質(zhì)量。同時(shí),經(jīng)過多次碰撞而喪失能|量的電子到達(dá)陽極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過熱。

參數(shù):

?主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)

?靶(上部電極):金:50mm×0.1mm(D×H)

?靶材:Au(標(biāo)配)

?樣品室:玻璃腔體160mm×120mm(D×H)

?靶材尺寸:Ф50mm

?真空度:≤ 4X10-2 mbar

?電流:≤100mA

?定時(shí)器:數(shù)碼JI時(shí) 0-999S

?鍍膜面積:50mm

?微型真空氣閥:可連接φ3mm軟管

?可通入氣體:多種

電壓:-1600 DCV

?機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置2L/S(國產(chǎn)VRD-8)

?冷卻方式:冷水機(jī)(可根據(jù)實(shí)驗(yàn)具體要求自備)

?速率:0--60nm/min

用途:

1、適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)觀察前對樣品的噴金、噴鉑。

2、非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作(噴金、噴鉑。噴銀等)

3、其他可以滿足條件的鍍膜實(shí)驗(yàn)。

特點(diǎn):

1、成膜速率高。

2、基片溫度低,可以對溫度敏感的材料進(jìn)行鍍膜。

3、可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜。

4、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小,顆粒大小約4-20nm。

5、SETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的SUN傷。

6、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。

7、同時(shí)可以通過換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達(dá)到細(xì)顆粒的涂層。

8、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到純凈的涂層。中西集團(tuán)


磁控濺射儀庫號:M413671


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