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北京海富達科技有限公司
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當前位置:北京海富達科技有限公司>>實驗室設備>>檢測儀>> 型號:WZX/SD-900C離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號:M413872

離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號:M413872

參   考   價: ¥ 47500

訂  貨  量: ≥1 件

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號型號:WZX/SD-900C

品       牌其他品牌

廠商性質生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間:2026-09-02 10:49:28瀏覽次數(shù):881次

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產(chǎn)地 國產(chǎn) 加工定制 否
離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號:M413872

離子濺射蒸碳儀(磁控靶) 型號:WZX/SD-900C庫號:M413872 查看hh

一、雙功能技術原理

噴金噴碳儀集成直流濺射與碳纖維繩熱蒸發(fā)蒸碳雙功能,屬于物理|氣相沉積(PVD)復合技術范疇,是通用單一功能設備無法替代的方案。噴金功能采用直流濺射原理,在≤4×10?²mbar低真空環(huán)境下,氬氣被電離產(chǎn)生等離子體,正離子高速轟擊鉑靶表面,使

離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號:M413872

離子濺射蒸碳儀(磁控靶) 型號:WZX/SD-900C庫號:M413872   查看hh

一、雙功能技術原理

噴金噴碳儀集成直流濺射與碳纖維繩熱蒸發(fā)蒸碳雙功能,屬于物理|氣相沉積(PVD)復合技術范疇,是通用單一功能設備無法替代的方案。噴金功能采用直流濺射原理,在≤4×10?2mbar低真空環(huán)境下,氬氣被電離產(chǎn)生等離子體,正離子高速轟擊鉑靶表面,使鉑原子均勻沉積形成致密導電薄膜;噴碳功能采用定制化碳纖維繩熱蒸發(fā)技術,通過28V高壓、100A大電流瞬時加熱碳纖維繩,使其快速蒸發(fā)并沉積為CHAO薄碳膜,膜層厚度可通過0-1s精ZHUN定SHI控制。雙功能共享一套真空系統(tǒng)與控制系統(tǒng),無需換設備即可完成兩種預處理工藝,大幅提升樣品處理效率與兼容性。

二、應用場景

科研檢測領域

適配掃描電鏡(SEM)、透射電鏡(TEM)樣品預處理,噴金適用于陶瓷、塑料等常規(guī)絕緣樣品,噴碳針對生物組織、CHAO薄材料、冷凍樣品等熱敏/對膜厚敏感的樣品,可避免電子積累與樣品SUN傷,保障高倍鏡下成像,是考古文物、生物樣本微觀分析的設備。

材料領域

用于高分子材料、納米材料、碳纖維復合材料的表面改性,噴碳可制備高附著力碳膜,提升材料導電性與光熱轉化效率;噴金可制備貴金屬電極,適配傳感器、光電器件等需求,兼顧多材料、多場景實驗需求。

生物YI LIAO領域

針對含水生物樣品、YI用耗材進行預處理,噴碳膜層薄且生物相容性佳,可避免影響樣品活性;噴金用于XUE糖儀試紙、生物傳感器等耗材的電極制備,保障檢測信號穩(wěn)定傳輸,適配與。

高校教學領域

適配材料、電子、生物教學與科研,可直觀展示濺射與熱蒸發(fā)兩種PVD技術原理,設備操作簡單、體積小巧,能快速完成小批量樣品實驗,兼顧教學演示與科研創(chuàng)新需求,是復合型教學設備。

三、技術參數(shù)

參數(shù)類別 詳細規(guī)格

整機結構 1、采用主機+副機分體式設計,

主機尺寸300mm×360mm×380mm、

副機300mm×360mm×140mm(W×D×H),

2、總重40Kg,副機承載熱蒸發(fā)模塊,主機集成濺射與真空系統(tǒng),布局優(yōu)化且占用空間0.22㎡,較同類復合設備體積縮減40%,適配實驗室緊湊空間,一體化復合結構無通用替代方案。

樣品室與雙功能系統(tǒng) 1、樣品室尺寸160mm×120mm(D×H),采用高透光硼硅酸鹽玻璃,可實時觀察雙功能鍍膜過程,玻璃經(jīng)防濺射涂層處理,避免靶材/碳粉附著影響視野。

2、濺射面積Φ50mm(匹配小型樣品),蒸碳面積140mm(適配大面積樣品),雙功能工位較單一功能設備兼容性提升一倍。

靶材與蒸發(fā)材料 1、標配Φ50mm×0.1mm高純度鉑(Pt)靶材(純度99.99%),與濺射靶一體化設計,濺射均勻性偏差≤±3%;蒸發(fā)材料采用碳纖維繩,耐高溫、蒸發(fā)速率穩(wěn)定,相較于石墨蒸發(fā)源,碳膜純度、附著力,且與熱蒸發(fā)模塊適配,通用材料無法達到同等蒸碳效果。

濺射與蒸碳控制參數(shù) 1、濺射參數(shù):電壓-1600DCV,

電流50mA,

電流穩(wěn)定度±0.1mA,

標準濺射速率40nm/分鐘,

0-999s定SHI器秒JI調控;

2、蒸碳參數(shù):電壓28V,

電流100A,

0-1s SHUN時加熱控制,

可精ZHUN制備10-50nm CHAO薄碳膜。

3、雙功能參數(shù)獨立存儲、聯(lián)動控制,控制系統(tǒng)可避免參數(shù)干擾,通用設備無法實現(xiàn)雙功能協(xié)同。

真空與氣路系統(tǒng) 4、皮拉尼真空計,測量范圍1×10?3-1×103mbar,針對雙功能場景校準,顯示精度±0.01mbar,可穩(wěn)定維持≤4×10?2mbar工作真空度;微型真空氣閥可連接φ3mm軟管,可連通惰性氣體提高成膜質量,密封性經(jīng)測試(漏率≤1×10??mbar·L/s),保障雙功能真空環(huán)境穩(wěn)定性。

動力與冷卻系統(tǒng) 1、標配2L/S機械泵,與雙功能系統(tǒng)適配性JIA,運行噪音≤55dB,從大氣抽至工作真空度需3-5分鐘;

2、冷卻系統(tǒng)標配風冷,效率較通用風冷提升25%。注:若單次濺射CHAO 3分鐘或制備厚膜,建議加裝原廠電冷裝置,控溫保護樣品與設備。

靶體配置 1、標配二極直流濺射靶,滿足常規(guī)噴金需求;

2、選配磁控靶(適配后濺射電流可達100mA),磁控靶采用磁路設計,濺射速率較二極靶提升30%。中西集團

中西集團


離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號:M413872


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