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行業(yè)產(chǎn)品

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杭州得聚儀器設(shè)備有限公司


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杭州得聚HMDS氣體真空烘箱烤箱烘干箱基片晶片預(yù)處理系統(tǒng)電子芯片鍍膜機(jī) 高溫?zé)o氧烘箱價(jià)格

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產(chǎn)品型號(hào)90L

品       牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商

所  在  地杭州市

聯(lián)系方式:洪松青查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2025-11-28 19:20:01瀏覽次數(shù):108次

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經(jīng)營(yíng)模式:經(jīng)銷(xiāo)商

商鋪產(chǎn)品:1096條

所在地區(qū):浙江杭州市

聯(lián)系人:洪松青 (經(jīng)理)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

HMDS真空烘箱特點(diǎn):1、烘箱外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置

詳細(xì)介紹

HMDS真空烘箱特點(diǎn):

1、烘箱外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體一目了然。

2、箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,確保箱內(nèi)高真空度。

3、微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,控溫,可靠。

4、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶(hù)根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時(shí)間。

5、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

6、整個(gè)系統(tǒng)采用無(wú)發(fā)塵材料制造,適用100 級(jí)光刻間凈化環(huán)境。

HMDS真空烘箱選配件:

真空泵:德國(guó)品牌,萊寶“DC"雙極系列旋片式油泵,極限真空高,噪音低,運(yùn)行穩(wěn)定。

連接管:不銹鋼波紋管,密封將真空泵與烘箱連接。

HMDS真空烘箱預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS真空烘箱的原理:

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS真空烘箱的一般工作流程:

先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開(kāi)始充人氮?dú)?,充到達(dá)到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,開(kāi)始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開(kāi)始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表而生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道。在無(wú)

廢氣收集管道時(shí)需做專(zhuān)門(mén)處理。

HMDS真空烘箱的技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

90L

210L

工作室尺寸(mm)

450*450*450

560*640*600

輸入功率

2400W

4000W

電源電壓

AC 220V±10%/50Hz±2%

AC 380V±10%/50Hz±2%

載物托架

2塊

3塊

控溫范圍

室溫+10℃-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動(dòng)度

±0.5℃

達(dá)到真空度

133Pa

時(shí)間單位

分鐘





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