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在可控氣氛熱處理工藝中,爐內碳勢的jing準控制直接決定工件滲碳層質量與產品一致性。氧探頭作為碳勢閉環(huán)控制系統(tǒng)的核心傳感元件,其測量精度與響應特性對整個工藝控制效果具有關鍵影響。美國SSI(Super Systems Inc.)氧探頭基于氧化鋯固體電解質技術,通過實時測量爐內氧分壓間接計算碳勢,為滲碳、碳氮共滲等熱處理工藝提供可靠的數(shù)據支撐。
技術特點
SSI氧探頭可實現(xiàn)碳勢測量精度±0.01%~±0.02% C,氧電勢誤差≤±0.1 mV,可滿足CQI-9、AMS2750G等標準對碳勢控制偏差≤±0.03% C的要求。
標準型產品在900℃工況下響應時間≤1秒,常規(guī)型號≤5秒,能夠及時跟蹤爐內氣氛變化,為閉環(huán)控制提供快速反饋。
探頭內置燒碳(Burn-off)通道,可定期通入空氣(建議流量1–5 L/min)清除電ji表面積碳,有效抑制測量漂移,延長使用壽命。部分型號采用離子鍍膜電ji技術,進一步降低信號漂移。
支持高溫狀態(tài)下在線更換探頭,無需傳統(tǒng)“一分鐘一英寸"的冷卻等待時間,可顯著減少維護停機損失。
保護管材質選用RA330鎳鉻耐熱合金或Inconel高溫合金,具備良好的高溫紅硬性與抗?jié)B碳/抗腐蝕能力。探頭防護等級IP65,可耐受熱處理車間的粉塵、油霧和腐蝕氣氛。
支持毫伏原始信號輸出,可選配4-20mA、0-10V模擬信號或RS485(Modbus RTU)數(shù)字通訊,可適配歐陸、WEST、神港、SSI AC20等主流碳控儀表,兼容性強,可替換多種品牌探頭。
為確保探頭長期穩(wěn)定運行,建議注意以下方面:
參比氣管理:使用潔凈干燥空氣,流量保持1–5 L/min,確保參比側基準穩(wěn)定
定期燒碳:根據工藝周期設置燒碳頻率,通常每2–4小時執(zhí)行一次,清除表面積碳
定期標定:建議每3–6個月使用標準氣體或箔片定碳法進行校驗,確認測量偏差在允許范圍內
長度選型:根據爐體結構與安裝位置選擇合適插入深度(600/800/1000/1200mm),確保傳感元件處于有效測量區(qū)域





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