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德國海德堡激光直寫系統(tǒng)

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更新時間：2026-03-09 09:53:16瀏覽次數(shù)：171次

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北京德華振峽科技有限公司

經(jīng)營模式：經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品：58條

所在地區(qū)：北京

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產(chǎn)品簡介

海德堡公司（Heidelberg Instruments 簡稱HIMT）坐落于德國海德堡市，HIMT成立于1984年，主要生產(chǎn)大小型高精密德國海德堡激光直寫系統(tǒng)不僅可光繪掩膜板上（photo mask），也可以直接光繪在各種基片上（芯片、石英玻璃、陶瓷基板等）。同時設備本身具有高精密測量功能。目前已超過200多臺設備在安裝使用，設備*大加工面積達70"X90"歡迎來電詢問及索取技術(shù)資料！

詳細介紹

德國海德堡激光直寫系統(tǒng)－DWL66激光直寫光繪系統(tǒng)，是海德堡公司考慮到客戶低成本投入，及增加與客戶互動關(guān)系理念下所設計的機臺，雖價格不高，但他仍然維持了高精密的光繪品質(zhì)，在微影技術(shù)與光學領(lǐng)域的研究發(fā)展上都獲得了客戶相當?shù)臐M意口碑。同時重接單到持續(xù)增加中，更證明了DWL66系統(tǒng)的設計開發(fā)理念，用*小的花費提升*高的附加價值。

技術(shù)參數(shù)：

加工零件尺寸：150X150mm

繪圖頭焦距 Write Lens	2mm	4 mm	10 mm	20 mm	40 mm
*小線寬或間距 Minimum Feature	0.6um	1µm	2.5 µm	5 µm	10 µm
書寫格網(wǎng) Write Grid	20nm	40 nm	100 nm	200 nm	400 nm
CD均勻度 CD Uniformity	80nm	100 nm	220 nm	440 nm	880 nm
線寬均勻度 Line width Uniformity	100 nm	200 nm	400 nm	600 nm	1000 nm
線邊粗糙度 Edge Roughness	60 nm	80 nm	120 nm	180 nm	280 nm
對準精度 Alignment Accuracy	200 nm	250 nm	500 nm	1 µm	2 µm
定位精度 Position Accuracy	0.4 um	0.6 µm	1 µm	1.5 µm	2 µm
讀寫時間 Writing time ( 80x80 mm)	70 hour	19 hour	3 hour	0.9 hour	0.3 hour

Applications 應用范圍
該激光圖形發(fā)生系統(tǒng)用于涂有光刻膠的各種基片，玻璃，硅片，或其他平面材料。
RETICLE（分劃板），ASICS（晶片），MEMS（微機電系統(tǒng)），SENSOR（傳感器），
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光學), MOEMS(微光機電),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS（集成光學）, µTAS，SAW ect.

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