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日本精工SIR5000 光掩膜修補裝置

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產(chǎn)品型號SIR5000

品       牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地深圳市

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更新時間:2018-05-15 14:54:18瀏覽次數(shù):1271次

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1.采用新型的離子束光學(xué)系統(tǒng),實現(xiàn)了離子束更細(xì)微化的聚焦。與現(xiàn)有的機(jī)型相比,實現(xiàn)了對更微小的缺陷部分的觀察和修正?! ?.修正精度達(dá)到15nm(3Σ),可以做到高精度的修正?! ?.采用Windows?2000基本的操作系統(tǒng),實現(xiàn)了新開發(fā)的GUI環(huán)境。  4.增加了二次離子像,實現(xiàn)了對二次電子像的觀察及修正。

產(chǎn)品型號:SIR5000
產(chǎn)品特點:
  1.采用新型的離子束光學(xué)系統(tǒng),實現(xiàn)了離子束更細(xì)微化的聚焦。與現(xiàn)有的機(jī)型相比,實現(xiàn)了對更微小的缺陷部分的觀察和修正?! ?.修正精度達(dá)到15nm(3Σ),可以做到高精度的修正。  3.采用Windows?2000基本的操作系統(tǒng),實現(xiàn)了新開發(fā)的GUI環(huán)境?! ?.增加了二次離子像,實現(xiàn)了對二次電子像的觀察及修正。
產(chǎn)品介紹:
利用聚焦離子束對半導(dǎo)體用遮掩板或者刻線上的缺陷部分進(jìn)行修復(fù)的裝置。對Binary和Half tone mask上的微小缺陷以及復(fù)雜形狀的缺陷進(jìn)行高精度和低損傷的修復(fù)。
  依據(jù)FIB,對用于半導(dǎo)體的光刻掩模板和網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)上的缺陷進(jìn)行修復(fù)、可以對Binary及Half Tone Mask等光刻掩模板上微小的缺陷和復(fù)雜形狀的缺陷做到高精度、低損耗的修復(fù)。

規(guī)格
型號 SIR5000
對應(yīng)遮掩模尺寸 zui大7.25英寸
離子源 Ga液態(tài)金屬離子源
加速電壓 zui大30kV
修正精度 15nm(3σ)
觀察、修正使用的圖像 ·二次離子像
·二次電子像
zui小可以修正的線寬 360nm
 
:劉
-13
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