詳細(xì)摘要： 目前,在半導(dǎo)體器件制造工藝中,特別是在用大園片投片進(jìn)行研制和生產(chǎn)小、中、大規(guī)模集成電路中,用等離子去膠代替常規(guī)化學(xué)溶劑去膠及濕氧、高溫干氧去膠,已顯示出大的性。...
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武漢邁可諾科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 目前,在半導(dǎo)體器件制造工藝中,特別是在用大園片投片進(jìn)行研制和生產(chǎn)小、中、大規(guī)模集成電路中,用等離子去膠代替常規(guī)化學(xué)溶劑去膠及濕氧、高溫干氧去膠,已顯示出大的性。...
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詳細(xì)摘要： 反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE，全稱是ReactiveIonEtching，反應(yīng)離子刻蝕，是一種微電子干法腐蝕工藝。RIE是干法蝕刻的一種方式，其原理是當(dāng)在平板電極之間...
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詳細(xì)摘要： ThenextgenerationMagnetronSputteringDeposittem,ispractical,inexpensive,expandabl...
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詳細(xì)摘要： PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--等離子體增強(qiáng)化學(xué)的氣相沉積PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜組...
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詳細(xì)摘要： 探針臺主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、光電行業(yè)、集成電路以及封裝的測試。廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的...
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詳細(xì)摘要： 用WireBonder(引線鍵合機(jī))進(jìn)行鍵合后的芯片，其焊點可能會出現(xiàn)位置偏移、斷線和線尾(Pigtail)過長等缺陷.
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詳細(xì)摘要： 光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。在紫外光等光照或輻射下，...
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詳細(xì)摘要： 石墨化碳布、碳紗、碳纖維物。具有良好的縫紉性能，并可制作各種厚度的成品復(fù)合材料。纖維表面有許多突出特性。該纖維具有高跨層的抗拉強(qiáng)度和層間剪切強(qiáng)度，不起皺的輪廓結(jié)...
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詳細(xì)摘要： 我們提供各種直徑，各種等級，多種規(guī)格，多種基底材料的晶圓片產(chǎn)品，尤其著重于直徑100毫米,200毫米,300毫米的生產(chǎn)級與測試級質(zhì)量的晶圓片。由于每個半導(dǎo)體設(shè)計...
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詳細(xì)摘要： Ossila注射器泵（也稱為注射器驅(qū)動器）通過電機(jī)驅(qū)動注射器活塞，以指定的速率移動固定體積的溶液，輸送/去除特定量溶液。根據(jù)注射器的內(nèi)徑和電機(jī)移動的距離，可計算...
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詳細(xì)摘要： 切膜機(jī)/切膜儀是一款用于實驗室的手動切膜系統(tǒng)。大部分的免疫測定條都可以輕易切割，包括含有擔(dān)體或非擔(dān)體硝酸纖維膜及帶有標(biāo)簽材料的尼龍膜。Matrix1201切膜機(jī)...
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詳細(xì)摘要： 勻膠機(jī)有很多種稱謂，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又稱甩膠機(jī)、勻膠臺、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋...
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詳細(xì)摘要： 小型狹縫涂布儀，針對有機(jī)發(fā)光二極管（OLED），有機(jī)光伏電池（OPV）和薄膜電池等領(lǐng)域使用的專業(yè)應(yīng)用工具?？捎玫某叽绶秶采w當(dāng)前和下一代的基板尺寸，可旋轉(zhuǎn)涂覆各...
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詳細(xì)摘要： 濕法刻蝕又稱為濕化學(xué)刻蝕法。它主要是借助刻蝕劑與待刻材料之間的化學(xué)反應(yīng)將待刻膜層溶解，以達(dá)到刻蝕的目的。濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及...
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詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)（MaskAligner)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對準(zhǔn)光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻...
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詳細(xì)摘要： 納米壓印機(jī)應(yīng)用：過去五年中，石墨烯的氣體傳感器引起了極大的興趣，顯示出單分子檢測。最近的研究表明，與非圖案化層相比，石墨烯的圖案化強(qiáng)烈地增加了靈敏度。通過標(biāo)準(zhǔn)程...
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詳細(xì)摘要： 光刻膠的前烘與堅膜是微機(jī)械加工工藝中的兩道工序.用于光刻膠烘干的熱板對表面溫度場分布的均勻性和溫度控制穩(wěn)定性均有較嚴(yán)格的要求.根據(jù)您的實際應(yīng)用選擇一款適合的熱板...
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詳細(xì)摘要： 快速退火爐(RapidThermalProcess)是一個簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛尺寸為直徑2~12英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA)，（如...
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詳細(xì)摘要： 紫外固化是用紫外線（UV）來照射液態(tài)的“UV照射可硬化的材料"而使它硬化的制程,我們稱之為“UVCuringProcess"。UV固化（UVCuring或UVC...
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詳細(xì)摘要： 干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的...
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