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皮膠高分子膠體磨-研磨機（研磨儀）

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產(chǎn)品型號PLD 2000

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所在地上海市

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更新時間：2023-01-03 10:02:54瀏覽次數(shù)：435次

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  膠體磨

管線式膠體磨

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  IKN/依肯

上海依肯機械設(shè)備有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：200條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：榮工（銷售工程師）

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產(chǎn)品簡介

適用領(lǐng)域	化工

皮膠高分子膠體磨，皮膠研磨分散機，高分子研磨機-過皮帶傳送，可實現(xiàn)兩到三倍的加速，同時立式直立的轉(zhuǎn)軸，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高，同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式高剪切均質(zhì)機有的乳化分散效果。

詳細(xì)介紹

皮膠高分子膠體磨，皮膠研磨分散機，高分子研磨機

影響乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 乳化頭的剪切速率（越大，效果越好）

3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

皮膠高分子膠體磨，皮膠研磨分散機，高分子研磨機

由以上可以看出線速度對乳化有著關(guān)鍵性的影響.根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000超高速剪切均質(zhì)機機。其剪切速率可以超過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到41m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備.

立式高剪切均質(zhì)機通過皮帶傳送，可實現(xiàn)兩到三倍的加速，同時立式直立的轉(zhuǎn)軸，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高，同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式高剪切均質(zhì)機有的乳化分散效果。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理，還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎，超細(xì)物料的均勻分散，以及加速大分子物質(zhì)的溶解。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切均質(zhì)機也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場所，比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒，通過分別通入腔體，兩種物料接觸時被剪切成微滴，均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。

，皮膠研磨分散機，高分子研磨機

高剪切分散乳化就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程。而在通常情況下各個相是互不相溶的。當(dāng)外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散乳化，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù)，zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

立式高剪切均質(zhì)機由1-3個工作腔組成，在馬達(dá)的高速驅(qū)動下，物料在轉(zhuǎn)子與定子之間的狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達(dá)到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質(zhì)和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定了粒徑分布范圍及均化、細(xì)化的效果和產(chǎn)量的大小。

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

電機形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬

電源選擇： 380V/50HZ、440V/50HZ

均質(zhì)機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti

均質(zhì)機表面處理：拋光、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

均質(zhì)機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小

均質(zhì)均質(zhì)機	標(biāo)準(zhǔn)流量（H2O）	輸出轉(zhuǎn)速	標(biāo)準(zhǔn)線速度	馬達(dá)功率	進(jìn)出口尺寸
型號	l/h	rpm	m/s	kW
PLD 2000/4	300-1,000	14000	44	2.2	DN25/DN15
PLD 2000/5	1,000-1.5000	10,500	44	7.5	DN40 /DN 32
PLD 2000/10	3,000	7,300	44	22	DN50 / DN50
PLD 2000/20	8,000	4,900	44	37	DN80 /DN 65
PLD 2000/30	20,000	2,850	44	75	DN150 /DN 125
PLD 2000/50	40,000	2,000	44	160	DN200 /DN 150

設(shè)備優(yōu)勢

◆ 處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)；
◆ 粒徑分布范圍窄，勻度高；
◆ 省時、高效、節(jié)約能源；
◆ 精密鑄造的整體式機架和經(jīng)精密動平衡測試的每道轉(zhuǎn)子，確保整機運行噪音低，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)；
◆ 消除批次間生產(chǎn)的品質(zhì)差異；
◆ *，物料通過粉碎分散剪切；
◆ 具有短距離、低揚程輸送功能；
◆ 使用簡單，維修方便；
◆ 可實現(xiàn)自動化控制；
◆ 集裝式機械密封，保證物料無泄漏；
◆ 單機處理量從1～120m3/h。