詳細(xì)摘要： 金相切片膠模、凝膠杯、切片模具
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深圳市安達(dá)儀器儀表有限公司
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詳細(xì)摘要： 日本共立水質(zhì)測(cè)試包殘余氯DPD WAK-CIO.DP 0.1-5mg/L 50次
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詳細(xì)摘要： H48mm*24mm玻璃比色皿10mL，12個(gè)/盒，通用于MD100，MD200，MD600，MD610 MD100便攜式COD測(cè)定儀/COD分析儀，適用...
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詳細(xì)摘要： 日本共立水質(zhì)測(cè)試包WAK-CN 0.02-2.0mg/L
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詳細(xì)摘要： 美國CalMetrics測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)片 X射線鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)樣品|標(biāo)準(zhǔn)片|標(biāo)準(zhǔn)樣片|標(biāo)樣 多年來，我們也在致力于為半導(dǎo)體生產(chǎn)行業(yè)，PCB廠商及一般電鍍業(yè)等行業(yè)...
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詳細(xì)摘要： WAK-NH4(C) 氨（高濃度） 00.40.81.64816以上 15分鐘 50次/盒 WAK-NH4 氨 0.1...
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詳細(xì)摘要： 共立理化學(xué)研究所是日本比較大的水質(zhì)試劑盒生產(chǎn)廠家，封裝試劑是簡(jiǎn)單的水質(zhì)檢測(cè)工具
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詳細(xì)摘要： W-290多工位真空冷鑲嵌機(jī) W-290多工位真空冷鑲嵌機(jī)金相試驗(yàn)鑲嵌機(jī)，提供的浸漬性能，操作快速高效
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詳細(xì)摘要： 美國WALCHEMWCU系列控制器是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化，能減少人工滴定檢驗(yàn)的需要，應(yīng)用在蝕銅還可以省去換缸的需要，從而節(jié)省成本...
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詳細(xì)摘要： 日本共立水質(zhì)測(cè)試包,共立理化學(xué)研究所是日本比較大的水質(zhì)試劑盒生產(chǎn)廠家，封裝試劑是簡(jiǎn)單的水質(zhì)檢測(cè)工具
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詳細(xì)摘要： 德國MN測(cè)試盒 詳細(xì)產(chǎn)品信息： 編號(hào) 產(chǎn)品名稱 單位刻度(mg/l) 規(guī)格 91307 鋁 0-5-20-50-200-...
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品介紹適用：硬板(PCB)等材料割開V槽后測(cè)量深度 結(jié)構(gòu)特點(diǎn)： １、操作簡(jiǎn)單
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詳細(xì)摘要： 離子污染測(cè)試儀SCSIonographSMDV SCS的名字在工業(yè)領(lǐng)域與自動(dòng)ROSE(萃取溶液電阻率)測(cè)試是同義詞
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詳細(xì)摘要： 測(cè)定項(xiàng)目 型號(hào) 范圍 測(cè)定時(shí)間(分鐘） 試劑混合方法 化學(xué)需氧量COD WA-COD 2
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詳細(xì)摘要： 共立理化學(xué)研究所是日本比較大的水質(zhì)試劑盒生產(chǎn)廠家，封裝試劑是簡(jiǎn)單的水質(zhì)檢測(cè)工具
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詳細(xì)摘要： 美國WALCHEM禾威190787沉浸式銅離子探頭 美國WALCHEMWCU系列控制器是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化，能減少人工滴定檢...
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詳細(xì)摘要： 金相切片100*50mm長(zhǎng)方形軟膠?！ 》叫文z模： 長(zhǎng)70mm*寬40mm*高25mm 長(zhǎng)55mm*寬20mm*高25mm 長(zhǎng)100mm*寬50mm*高2...
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品說明： TPK2000系列爐溫跟蹤儀是專業(yè)為烤爐、汽車涂裝，粉末涂裝，不粘涂料涂裝、鋁釬焊爐、食品加工、化工、膠水固化，五金電鍍烤漆、淬火等烘烤工藝的高溫...
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詳細(xì)摘要： CMI200涂層測(cè)厚儀SMP-2探頭 探頭ECP-M CMI200系列CMI233測(cè)厚儀 用途：廣泛應(yīng)用于所有非磁性涂鍍層和所有非導(dǎo)電性涂鍍層的厚度測(cè)定 ...
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詳細(xì)摘要： 日本共立水質(zhì)測(cè)試包WAK-NID 0.3-10mg/L 鎳測(cè)試包
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