HPLC級空白梯度洗脫規(guī)范的意義是什么？
如果溶劑中的雜質(zhì)水平低于1 ppm，簡單的UV光譜通常檢測不到其存在[1]。然而，這些痕量雜質(zhì)可能在有機相和水相比例較低時在柱上富集并保留，然后當(dāng)梯度過程中流動相洗脫能力增強時被洗脫下來，從而形成鬼峰[7]。因此，HPLC空白梯度洗脫基線上的鬼峰高低，是評價質(zhì)量的關(guān)鍵規(guī)范方法。它清楚地表明了乙腈中是否 含有影響梯度洗脫模式下HPLC分析的痕量的雜質(zhì)。
《試劑化學(xué)品》（第9版）明確規(guī)定214 nm處HPLC空白梯度洗脫基線的峰高應(yīng)低于5 mAU。
具體的測定方法如下：
C18柱（250 mm×4.6 mm i.d.，5 μm）；
梯度：0 min，80% 水（溶劑A），20% 乙腈（溶劑B），保持30 min；
在50 min時達(dá)到 99% B，保持10 min；流速2 mL/min。樣品運行3次，并去掉第1次運行的結(jié)果[5]。
圖7比較了B&J ACS/HPLC和幾種國內(nèi)色譜級乙腈樣品的ACS空白梯度洗脫基線。
結(jié)果表明，一些本地產(chǎn)樣品在254 nm時會產(chǎn)生高達(dá)20 mAU的鬼峰。這說明即使在254 nm處，這些國產(chǎn)試劑也可能在HPLC常規(guī)分析中產(chǎn)生干擾。
在HPLC的一些實際應(yīng)用中，往往需要在更低波長處使用梯度洗脫模式以實現(xiàn)高靈敏度的HPLC分析，因此對乙腈的HPLC空白梯度洗脫規(guī)范提出了更高的要求。為了滿足高靈敏HPLC應(yīng)用的要求，一些溶劑供應(yīng)商也生產(chǎn)梯度級HPLC乙腈。這種乙腈不同于用于等度洗脫HPLC分析的，它們可以滿足更嚴(yán)格的梯度洗脫規(guī)范。例如，Honeywell Burdick & Jackson的空白梯度洗脫基線規(guī)格為：254 nm時低于1 mAU，215 nm時低于5 mAU。
在215 nm下，不同供應(yīng)商的梯度級乙腈的梯度洗脫基線不同，說明它們用于低波長梯度洗脫模式痕量HPLC分析的質(zhì)量不同。
