GKS-2光刻機(jī)

本機(jī)是制造中、大規(guī)模集成電路，傳感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻設(shè)備。

主要技術(shù)參數(shù)

1、適用的掩模尺寸：①100×100×2～3mm　②75×75×2～3mm　③63×63×2～3（選購）

2、適用的硅片尺寸：Φ35～Φ75mm

3、光刻圖形線條：3～4um，zui細(xì)可達(dá)2um

4、掩模與硅片之間的相對(duì)位移范圍：X/Y±2.5mm，（旋轉(zhuǎn)）±6°

5、承片臺(tái)（硅片）繞主軸旋轉(zhuǎn)：粗調(diào)360度，可微調(diào)

6、承片工作臺(tái)綜合移動(dòng)范圍：X,Y合成Φ75mm

7、承片臺(tái)的球座平面至掩模板面升降：0～7.5mm

8、曝光燈源：GCQ200W超高壓汞燈，曝光波長：300～436nm

9、曝光系統(tǒng)能量不低于：7mw

10、曝光系統(tǒng)的照度均勻度在Φ75mm范圍內(nèi)：±5%

11、顯微鏡的照明波長：≈545nm

12、曝光時(shí)間控制范圍：0.1秒～99分

13、雙目顯微鏡的放大倍數(shù)：①目鏡共二種：10X,16X　②平視場(chǎng)物鏡共三種：6X,9X,15X　③合成放大倍率：60X～240X

14、真空接觸壓力：≥0.7kgf

15、裝箱尺寸：1000×850×980mm（2只）

16、裝箱重量：210kg