JGK-3高精密光刻機

本機是制造中、大規(guī)模集成電路，傳感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻設(shè)備。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、適用掩模尺寸：①150×150×2.3mm ②125×125×2.3mm ③100×100×2.3（選購）

2、適用的硅片尺寸：①Φ125mm　②Φ100mm　③Φ75mm（選購）

3、曝光分辨率：2um，細(xì)調(diào)可達(dá)1um.

4、掩模與硅片之間的相對位移范圍：X、Y±5mm，θ±5°

5、掩模旋轉(zhuǎn)范圍：±5°

6、承片臺的球座平面至掩模板面微調(diào)范圍：0～1mm

7、曝光燈源：200W超高壓直流汞燈

8、曝光譜線：436、405、365（nm）

9、曝光系統(tǒng)能量不低于：18mw/cm2

10、曝光系統(tǒng)的照度均勻度：Φ110mm范圍內(nèi)±3%；Φ136mm范圍內(nèi)±5%

11、顯微鏡的照明波長：≈545nm

12、曝光時間控制范圍：0～99.99S

13、雙目分離視場顯微鏡的放大倍數(shù)：①目鏡共二種：10X,15X　②平視場物鏡共三種：4X,10X,16X　③合成放大倍率：40X-240X

14、分離視場調(diào)節(jié)范圍：30～80mm

15、真空接觸壓力：≤-0.06Mpa

16、供電電源：AC220V±10% 50HZ

17、環(huán)境溫度：22±2°C

18、相對溫度：≤60%

19、凈化等級：100級

20、外形尺寸：W960×D1000×H1400mm