南京康氏保健制品有限公司
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產(chǎn)品型號K575X
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
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更新時間:2017-10-28 02:34:25瀏覽次數(shù):419次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)K575X使用“渦輪"泵,前級為旋片式機械泵,整個抽真空過程為自動控制。
真空度可調(diào)整,以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬,以及金靶等不同材料要求,定時器可設(shè)置成不同的濺射時間。
EMITECH K575X 高分辨率濺射儀 ——Peltier制冷型 本系統(tǒng)裝配了磁控管靶,靶面直徑為54 mm,可快速更換靶材。 濺射頭用Peltier制冷,可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層(無需水冷卻)。 濺射時參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣電磁閥。 K575d(雙頭)其它與K575X相同,只是具有兩個濺射頭。在進(jìn)行特殊涂層的應(yīng)用時,不需要打開真空即可進(jìn)行兩層沉積濺鍍。 注:K575d技術(shù)規(guī)格與K575X相同,但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷,對于比較厚的沉積,通常用K575d(雙頭)單元,它需要用水冷卻。 儀器特點 ● 全自動控制 ● Peltier冷卻濺射頭 ● 精細(xì)鍍層(0.5nm Cr粒子) ● 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標(biāo)準(zhǔn)配置 ● 薄膜沉積(典型為5nm) ● 直徑為165mm腔室 ● 可選雙濺射頭 ● 可接膜厚測控儀 儀器優(yōu)點 ● 可濺射易氧化金屬精細(xì)顆粒,如:鉻或銥 ● 易操作 ● 無需水冷卻 ● 超高分辨率,可復(fù)制涂層 ● 適應(yīng)各種樣品 ● 重復(fù)膜厚沉積 ● 樣品容易裝載和卸載 ● 不需要打開真空即可進(jìn)行順序涂層 ● 沉積厚度可預(yù)設(shè) 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H 安全鐘罩:聚碳酸酯 基座: 110 mm直徑x 115mm高 重量:42公斤 靶:54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材) 樣品臺:60mm直徑,具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺 真空范圍:ATM-1x10-5 mbar 操作真空:1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar 濺射電流:0-150mA 沉積速率:0-20nm/分 濺射定時:0-4 分鐘 渦輪分子泵:60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar) Services - Argon - Nominal 10 psi; Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr 電源:230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為6安培) 115 伏 60Hz(包括泵zui大電流為12安培)
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商 鋪:南京康氏保健制品有限公司 http://m.liuyangwu.com/st4782/
主營產(chǎn)品:冷光儀;多功能超高倍顯微儀;高倍顯微儀;顯微鏡;電鏡制樣設(shè)備K系列(鍍金\鍍鉑\鍍碳\濺鍍\蒸鍍)
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