南京康氏保健制品有限公司
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產(chǎn)品型號K650X
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
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更新時間:2018-03-28 10:59:48瀏覽次數(shù):575次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)K650X具有三個磁控管,可對大樣品進行噴鍍,樣品臺可旋轉(zhuǎn),保證均勻沉積。這種方法可利用標準靶面,不需要特別的大靶面。
K650X濺射鍍膜儀(三靶大樣品室) 這種三頭靶面系統(tǒng)特別適用于半導體晶片工業(yè)。 本系統(tǒng)使用磁電管靶,在使用低電壓時提高了效率,并且能得到非常精細的顆粒,由于是冷濺射,所以無需冷卻靶面或樣品臺。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(或用戶選擇),提供的性能價格比。 功能集中在儀器面板上及即插即用電子學設(shè)計,zui大的“up-time",這些用戶友好設(shè)計滿足了不同學科的用戶需求。 濺射參數(shù)可被預先設(shè)置,包括氣體放氣針閥,此閥為電磁閥,具有自動控制,可精確及重復膜厚沉積。 濺射頭互鎖,系統(tǒng)可容易選配K250鍍碳附件。 本儀器為全自動操作,可控制獨立的真空泵。 K650T Turbo Unit與上面相同,但具有渦輪分子泵,抽速60升/秒具有更高及清潔的真空。 特點 ·三個靶面濺射系統(tǒng) ·全自動控制 ·低電壓濺射 ·高分辨率精細涂層(金顆??蛇_2 nm) ·具有傾斜裝置的特殊旋轉(zhuǎn)臺 ·均勻厚度沉積(掃描電鏡一般厚度為 20nm 或200埃) ·225 mm(6英寸)腔室直徑 ·可接膜厚監(jiān)視器,實時監(jiān)視鍍層厚度 優(yōu)點 ·適合大樣品,如晶圓 ·易操作 ·無需冷卻樣品臺 ·精確的再次涂層 ·適合各種樣品 ·膜厚度重復性好 ·容易裝載或卸載大樣品—zui大到6"晶圓 ·可預設(shè)沉積厚度 性能指標 1.儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 225mm Dia x 125mm H 3.基座: 110 mm直徑x 115mm高 4.安全鐘罩:聚碳酸酯 5.重量:24公斤 6.靶:3 x 60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標準靶面) 7.旋轉(zhuǎn)臺:直徑為155 mm,可調(diào)節(jié) 8.樣品臺:距離靶面40到50 mm 9.真空范圍:ATM-1x10-2 mbar 10.沉積電流范圍:0-100mA 11.沉積速率:0-20nm/分 12.濺射時間: 0-4 分鐘 13.預設(shè)置針閥:控制氬 14.電源:230 伏 50Hz (8amp max. including Pump)
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主營產(chǎn)品:冷光儀;多功能超高倍顯微儀;高倍顯微儀;顯微鏡;電鏡制樣設(shè)備K系列(鍍金\鍍鉑\鍍碳\濺鍍\蒸鍍)
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