CCU-010 LV普通真空鍍膜系統(tǒng)專為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計(jì)。它是一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用的插入式設(shè)計(jì)，通過簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可選進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。專有的自動(dòng)碳源卷送設(shè)計(jì)–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無需用......
瑞士Safematic電鏡制樣設(shè)備：CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀（SP-010+CT-010）
緊湊型、模塊化和智能化
CCU-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用的插入式設(shè)計(jì)，通過簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
?高性能離子濺射、蒸發(fā)鍍碳和等離子處理
?專有的碳源設(shè)計(jì)–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)
?的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊
?的真空性能和快速抽真空
?結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修
?雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
?的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(zhǎng)連續(xù)運(yùn)行時(shí)間
巧妙的真空設(shè)計(jì)
CCU-010 LV精細(xì)真空鍍膜系統(tǒng)專為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計(jì)。模塊化的設(shè)計(jì)可將低真空單元后續(xù)很輕松地升級(jí)為高真空單元。特別選擇和設(shè)計(jì)的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時(shí)間。
SP-010濺射模塊
SP-010濺射模塊連續(xù)鍍膜時(shí)間長(zhǎng)，非常適合需要較厚膜的應(yīng)用。 可選多種濺射靶材，適合SEM等導(dǎo)電薄膜應(yīng)用。
SP-010是電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。對(duì)于極細(xì)顆粒尺寸鍍膜，推薦使用渦輪泵抽真空的CCU-010 HV版本。
CT-010碳蒸發(fā)模塊
緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新，非常適合SEM等需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場(chǎng)合。CT-010可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜，而無需更換碳源?？蓪?duì)溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜，也可對(duì)中厚膜層應(yīng)用進(jìn)行高功率閃蒸鍍碳。
GD-010輝光放電模塊
可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)進(jìn)行表面處理，例如，使碳膜親水。
HS-010真空儲(chǔ)存箱
HS-010真空儲(chǔ)存箱可在真空條件下存放備用鍍膜頭、靶材等附件，使它們處于清潔狀態(tài)。
ET-010等離子刻蝕單元
在對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜之前或鍍膜之后，可對(duì)樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理。
Coating-LAB軟件
使用基于PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內(nèi)的處理數(shù)據(jù)。
RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件
◎基于window的遠(yuǎn)程控制軟件
◎創(chuàng)建和調(diào)用配方
可選多種樣品臺(tái)
CCU-010提供一個(gè)直徑不小于60mm的樣品臺(tái)，該樣品臺(tái)插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺(tái)支架上?？蛇x其它專用的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、行星臺(tái)、載玻片樣品臺(tái)等。
CCU-010 LV普通真空鍍膜儀版本
作為真空鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)單元，CCU-010 LV 專為 SEM 和 EDX 的常規(guī)高質(zhì)量濺射和/或碳鍍膜而設(shè)計(jì)。客戶可選擇：
CCU-010 LV磁控離子濺射鍍膜儀；
CCU-010 LV熱蒸發(fā)鍍碳儀；
CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；
CCU-010 LV手套箱專用鍍膜儀。
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