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Q300T T Plus三靶大腔室全自動(dòng)濺射鍍膜儀

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產(chǎn)品型號(hào)Q300T T Plus

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更新時(shí)間：2025-08-25 10:08:20瀏覽次數(shù)：101次

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Q300T T Plus三靶大腔室全自動(dòng)濺射鍍膜儀

詳細(xì)介紹

Q300T T Plus三靶大腔室全自動(dòng)濺射鍍膜儀

Q300T T Plus用于200 mm直徑（8英寸）以下的大樣品或多個(gè)小樣品，是一個(gè)大腔室渦輪泵濺射鍍膜系統(tǒng)，適合薄膜研究和普通掃描電鏡/場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡樣品制備應(yīng)用。它配有三個(gè)獨(dú)立的濺射頭，以確保單個(gè)大樣品或多個(gè)小樣品的均勻沉積。對(duì)于小樣品的經(jīng)濟(jì)的鍍膜，可選擇“單靶”模式。Q300T T Plus被設(shè)計(jì)成濺射一系列氧化和非氧化（貴金屬）的金屬靶材，標(biāo)配三塊57 mm直徑x 0.3 mm厚度的相同的鉻（Cr）靶。請(qǐng)注意：不能用Q300T T Plus將每個(gè)濺射頭配置三種不同的濺射金屬去實(shí)現(xiàn)三層連續(xù)鍍膜！

有關(guān)連續(xù)鍍制兩層不同材料的膜層，請(qǐng)參閱Q300T D Plus。其它大腔室鍍膜儀，請(qǐng)參閱K975X/K975S以及Q300T ES Plus。

儀器特點(diǎn)：

• 極限真空5 x 10^-5mbar或更優(yōu)

• 電容式觸摸屏，靈敏度高，更易觸控使用；用戶界面軟件全面更新，使用現(xiàn)代智能手機(jī)技術(shù)界面

• 全面的文字幫助頁面

• USB接口可輕松進(jìn)行軟件更新，也可將配方文件備份/復(fù)制到USB存貯器

• log文件格式為.csv，內(nèi)含日期、時(shí)間和工作參數(shù)，可導(dǎo)出至Excel或類似軟件中分析

• 允許多用戶輸入和儲(chǔ)存鍍膜方案，并可根據(jù)最近的使用情況來排列每個(gè)用戶的配方

• 16GB內(nèi)存，雙核ARM處理器，可實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)的顯示；帶觸摸屏按鈕的全圖形界面，包括最近使用的1000個(gè)鍍膜日志等功能

• 帶內(nèi)爆防護(hù)罩的可拆卸玻璃腔室，可選高腔室

• 多種樣品臺(tái)可選

• 三個(gè)相同靶材的大面積濺射頭；磁控冷濺射；脈沖清潔用于濺射Al（鋁）