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產(chǎn)品型號K575X
品 牌
廠商性質經(jīng)銷商
所 在 地
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更新時間:2018-05-15 15:49:17瀏覽次數(shù):1024次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)K575X使用“渦輪"泵,前級為旋片式機械泵,整個抽真空過程為自動控制。真空度可調整,以適應鉻或其它易氧化金屬,以及金靶等不同材料要求,定時器可設置成不同的濺射時間。K575d(雙頭)其它與K575X相同,只是具有兩個濺射頭。在進行特殊涂層的應用時,不需要打開真空即可進行兩層沉積濺鍍。
K575X使用“渦輪"泵,前級為旋片式機械泵,整個抽真空過程為自動控制。
真空度可調整,以適應鉻或其它易氧化金屬,以及金靶等不同材料要求,定時器可設置成不同的濺射時間。
本系統(tǒng)裝配了磁控管靶,靶面直徑為54 mm,可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷,可得到高性能、精細顆粒的涂層(無需水冷卻)。
濺射時參數(shù)可預設,包括氣體放氣電磁閥。
K575d(雙頭)其它與K575X相同,只是具有兩個濺射頭。在進行特殊涂層的應用時,不需要打開真空即可進行兩層沉積濺鍍。
注:K575d技術規(guī)格與K575X相同,但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷,對于比較厚的沉積,通常用K575d(雙頭)單元,它需要用水冷卻。
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