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射頻CCP薄膜沉積

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號HG07-DP系列

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

聯(lián)系方式:蔣工查看聯(lián)系方式

更新時間:2025-09-11 09:02:52瀏覽次數(shù):395次

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適合大學物理、材料、化學等領域的學生實驗及教師科學研究。

產(chǎn)品名稱:射頻CCP薄膜沉積
產(chǎn)品型號: HG07-DP系列
產(chǎn)品編號: 28308

射頻CCP薄膜沉積   的詳細介紹

適合大學物理、材料、化學等領域的學生實驗及教師科學研究。

設備規(guī)格配置:

 

1

2

3

沉積室

玻璃真空室

不銹鋼真空室

射頻功率源

13.56MHz,功率:500W

 

射頻耦合方式

Φ60mm單圈環(huán)形電感

真空系統(tǒng)

機械泵

機械泵+擴散泵

機械泵+分子泵

極限真空

6.7×10-1Pa

5×10 -4Pa

8×10-5Pa     

恢復真空

2Pa

5×10-3Pa

8×10-4Pa

進氣系統(tǒng)

三路轉(zhuǎn)子流量計或三路質(zhì)量流量計

襯底溫度

室溫至300℃可調(diào)可控;

真空測量

數(shù)顯電阻真空計

數(shù)顯復合真空計

數(shù)顯復合真空計

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