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產(chǎn)品型號
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所 在 地廣州市
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更新時間:2025-07-05 07:51:04瀏覽次數(shù):198次
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產(chǎn)品概述:V400ACE聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)融入了離子鏡筒設(shè)計、氣體輸送和終端探測技術(shù)的發(fā)展成果,用以提供快速、有效、具成本效益的集成電路編輯

產(chǎn)品概述:
V400ACE 聚焦離子束 (FIB) 系統(tǒng)融入了離子鏡筒設(shè)計、氣體輸送和終端探測技術(shù)的發(fā)展成果,用以提供快速、有效、具成本效益的集成電路編輯。 電路編輯使產(chǎn)品設(shè)計人員可在數(shù)小時內(nèi)修改導(dǎo)電路徑并測試已修改的電路,而不必花費數(shù)周甚或數(shù)月時間來生成新掩模和加工新晶片。 更少且更短的修改和測試周期使制造商可以更快地開發(fā)新工藝以實現(xiàn)贏利性的大批量產(chǎn)出,并可以向市場推出優(yōu)質(zhì)的定價新產(chǎn)品。 V400ACE 旨在應(yīng)對設(shè)計和工藝流程的挑戰(zhàn): 更小的幾何尺寸、更高的電路密度、特殊的材料和復(fù)雜的互連結(jié)構(gòu)。 經(jīng)過配置,V400ACE 可使用可選紅外顯微鏡和塊狀硅溝槽套件進行背面編輯。
主要優(yōu)點:
• 快速精確的電路修改使設(shè)計更改僅需數(shù)小時,同時無需加工新的硅晶片
• NanoChemix 氣體輸送系統(tǒng)改進了材料移除和沉積的速度、靈活性、均勻性和質(zhì)量
• Tomahawk 離子鏡筒輸送更多電流至更小的加工點,實現(xiàn)更快、更精確的銑蝕
• SE 和樣品電流同步繪圖功能改進了端點檢測
• 快速精確的橫截面切割可揭示缺陷和表面下方特征
• 適用于探測和芯片測試應(yīng)用的電氣饋通
• 可選的背面編輯功能、近紅外顯微鏡和硅溝槽套件
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