上海續(xù)波光電技術有限公司
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所 在 地上海
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更新時間:2026-06-02 14:15:05瀏覽次數:412次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網關鍵詞:SiO2、AlN、Al2O3、介電膜、刻蝕、電子槍、離子槍、氧化鋁、氮化鋁、二氧化硅型號:MEB400S
關鍵詞:SiO2、AlN、Al2O3、介電膜、刻蝕、電子槍、
離子槍、氧化鋁、氮化鋁、二氧化硅

型號: MEB400S, 產地:歐洲 應用:沉積介電薄膜(SiO2, AlN, Al2O3等)
用于介電質膜層沉積,例如SiO2,Si3N4,Al2O3
樣品臺雙行星轉動,可加載4英寸襯底
配備Load Lock和主腔體
真空系統(tǒng):采用低溫泵/分子泵+干泵
10kW電子束源,多槍
樣品臺可加熱
配備離子槍,可對樣品進行清理和刻蝕
配備氬氣、氮氣氣路和MFC
全自動電腦控制系統(tǒng),半自動和手動可用
支持遠程維護、操作、監(jiān)控
典型用戶:格拉斯哥大學
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商 鋪:上海續(xù)波光電技術有限公司 http://m.liuyangwu.com/st52014/
主營產品:磁控濺射儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,離子減薄儀,微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)(MPCVD),化學束外延系統(tǒng),電磁場場分布測試儀,等離子處理,刻蝕機,光學軟件與材料(金剛石),HFCVD,BSDF/BRED測量儀,電磁場仿真軟件
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