學(xué)束外延系統(tǒng)（激光輔助CBE，MOMBE）
150 面議上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
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上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)550S4
品 牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地國(guó)外
聯(lián)系方式：肖先生查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2026-06-02 11:48:45瀏覽次數(shù)：1183次
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磁控濺射和電子束蒸發(fā)鍍膜一體機(jī)是納米器件制備中*的儀器，用于制備各種高純金屬薄膜和氧化物薄膜。開(kāi)展量子計(jì)算機(jī)實(shí)驗(yàn)研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導(dǎo)量子結(jié)，量子點(diǎn)電子自旋的研究，均需要蒸鍍/濺鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來(lái)制備量子器件。
配置概要：
1、 系統(tǒng)配有多個(gè)腔室：UHV蒸發(fā)室、UHV濺射室，load lock等，用于制備約瑟夫森結(jié)。
2、 電子束蒸發(fā)源：（4-6）x 15cc，6-15KW，2-10KV可調(diào)。
3、 濺射室配有多個(gè)磁控靶源，每個(gè)靶源有獨(dú)立的擋板，配備獨(dú)立氣路。
4、 可以注入多種氣體，進(jìn)行氧化處理，并且可控制其壓強(qiáng)。
5、 樣品臺(tái)可以適用于3英寸以上晶片，且具有樣品臺(tái)傾斜和旋轉(zhuǎn)功能（三維轉(zhuǎn)動(dòng)）。
6、 樣品襯底在鍍膜前可以通過(guò)離子槍進(jìn)行清潔。
7、 主要真空腔真空度可達(dá)10-9-10-10 Torr。
8、 可以沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜。
9、 蒸鍍厚度控制速度分辨率: 0.001nm/s
10、 整個(gè)系統(tǒng)全自動(dòng)控制，支持半自動(dòng)和手動(dòng)模式。
代表用戶(hù)：*超導(dǎo)及量子器件研究實(shí)驗(yàn)室。
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