微波等離子CVD金剛石單晶生長(zhǎng)系統(tǒng)
150 面議上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)SSDR150
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)代理商
所 在 地國(guó)外
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更新時(shí)間:2026-06-02 11:50:40瀏覽次數(shù):1263次
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品特點(diǎn)概述
適用范圍:生長(zhǎng)大面積金剛石薄膜(4-10英寸,甚至更大)
生長(zhǎng)速度:可高達(dá)幾?m-幾十?m/h,甚至更高;
生長(zhǎng)范圍:可在直徑100mm范圍內(nèi)生長(zhǎng)、或者在直徑300mm范圍內(nèi)生長(zhǎng)。
研究及小規(guī)模生產(chǎn)型:
微波功率:2.45GHz,6KW, 脈沖模式可選 (提高沉積速度和質(zhì)量);
樣品臺(tái):直徑75-100mm,旋轉(zhuǎn)襯底可選(提高大面積均勻性);
真空系統(tǒng):oil pump/dry pump,TMP可選(營(yíng)造高真空基準(zhǔn));
控制方式:半自動(dòng)或全自動(dòng)(操作靈活);
生長(zhǎng)速率:高達(dá)30μm/h.
整體特點(diǎn):專(zhuān)門(mén)生長(zhǎng)大面積熱沉級(jí)、光學(xué)級(jí)多晶薄膜配置,適合于研發(fā)、小規(guī)模生產(chǎn)。
大面積光學(xué)級(jí)金剛石厚膜生產(chǎn)研究型:
微波功率:915MHz,30KW;
水冷襯底:直徑250mm或更大; 襯底加熱和襯底旋轉(zhuǎn)可選.
4個(gè)4英寸襯底, 加熱和旋轉(zhuǎn)襯底可選
真空系統(tǒng):oil pump / dry pump+TMP(營(yíng)造高真空基準(zhǔn));
控制系統(tǒng):全自動(dòng)控制(適合大批量生產(chǎn));
生長(zhǎng)速率:高達(dá)30μm/h, 或更高速率
整體特點(diǎn):專(zhuān)門(mén)大面積金剛石薄膜研究及生產(chǎn)配置;可獲得4-10英寸光學(xué)級(jí)金剛石厚膜,也可以用于研究合成曲面自支撐金剛石厚膜,請(qǐng)?jiān)敿?xì)咨詢(xún)!
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商 鋪:上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司 http://m.liuyangwu.com/st52014/
主營(yíng)產(chǎn)品:磁控濺射儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,離子減薄儀,微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(MPCVD),化學(xué)束外延系統(tǒng),電磁場(chǎng)場(chǎng)分布測(cè)試儀,等離子處理,刻蝕機(jī),光學(xué)軟件與材料(金剛石),HFCVD,BSDF/BRED測(cè)量?jī)x,電磁場(chǎng)仿真軟件
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