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三溫區(qū)滑軌式管式爐該軌道式石墨烯制備管式爐主要用于CVD法制備石墨烯，利用該設備的爐體來回移動還可以實現(xiàn)快速升溫和快速降溫，因此也可用于解決快速退火工藝。加熱溫...

三溫區(qū)滑軌式管式爐SK-1200-60IIIC-MRTP該軌道式石墨烯制備管式爐主要用于CVD法制備石墨烯，利用該設備的爐體來回移動還可以實現(xiàn)快速升溫和快速降溫...

1700℃單溫區(qū)管式爐廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域，Z高溫度可達1700℃。

1500℃單溫區(qū)管式爐廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域，Z高溫度可達1500℃。

三溫區(qū)管式爐三溫區(qū)真空管式爐主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進行真空燒結、氣氛保護燒結、...

五溫區(qū)開啟式管式爐廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門，用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等。

該小型管式爐主要應用于高等院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，因體積較小，功能*特別適合放到通風櫥、手套箱里來使用。

立式管式爐是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

立式管式爐是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

該軌道式石墨烯制備管式爐主要用于CVD法制備石墨烯，利用該設備的爐體來回移動還可以實現(xiàn)快速升溫和快速降溫，因此也可用于解決快速退火工藝。加熱溫區(qū)220mm+44...

旋轉管式爐主要用于氣氛保護下的：物料干燥、高溫燒結、過程反應等。