 | 天津中環(huán)電爐股份有限公司 |
當(dāng)前位置：首頁>>產(chǎn)品展示>>CVD/PECVD系列
在線溝通：
|
詳細(xì)摘要：產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
|
|
|---|---|---|
|
詳細(xì)摘要：產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
|
|
|
詳細(xì)摘要：產(chǎn)品用途：此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
|
|
|
詳細(xì)摘要：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
|
|
|
詳細(xì)摘要：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
|
天津中環(huán)電爐股份有限公司
儀表網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究.Copyright(C) http://m.liuyangwu.com, All rights reserved.
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，儀表網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。 溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。