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北京華測試驗儀器有限公司
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當(dāng)前位置:北京華測試驗儀器有限公司>>高溫管式爐\反射爐\氣氛爐>> HCGL-1000華測高溫管式爐

華測高溫管式爐

參   考   價: ¥ 999

訂  貨  量: ≥1  件

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號HCGL-1000

品       牌華測儀器

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

聯(lián)系方式:魏工查看聯(lián)系方式

更新時間:2026-08-24 11:48:04瀏覽次數(shù):681次

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產(chǎn)地 國產(chǎn) 加工定制 是
適用領(lǐng)域 科研
華測高溫管式爐主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

華測高溫管式爐




產(chǎn)品介紹:

華測高溫管式爐主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

目前國內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度的高精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵眨呒兌葰怏w中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

它提高了加熱試驗?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講,都節(jié)省時間并提高實驗速度。

同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現(xiàn)全新的溫度控制操作!

本試驗爐具有:1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據(jù)用戶需求訂制!

華測儀器管式爐使用的反射鏡是具有高精度曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設(shè)備優(yōu)勢:

高速加熱與冷卻方式:高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。

溫度高精度控制:過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精準控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻:加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

用途:工礦企業(yè)、高校、研究所等做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小,進行小試,中試,批量生產(chǎn)。

應(yīng)用范圍:

1. 電子材料

◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機材料

◆陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。

◆爐焊接模擬

◆高真空熱處理(1000°C以下)

◆大氣氣體熔化過程

◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4. 復(fù)合材料

◆耐熱性評價爐

◆無機復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐

5. 其它

◆高溫拉伸壓縮試驗爐。

◆分段分區(qū)控制爐

◆溫度梯度爐

◆爐氣分析

◆超導(dǎo)陶瓷退火爐


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