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光刻膠HMDS預處理常見問題

閱讀：84發(fā)布時間：2025-8-8

光刻膠HMDS預處理常見問題

1.HMDS是如何涂在硅片表面的？是像勻膠那樣甩涂嗎？另外，是在什么溫度下操作，需不需要在加熱硅片的同時涂覆，還是等去把硅片清洗完畢烘干冷卻后甩涂？

答：HMDS是氣相涂布在硅片表面，也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一會兒，溫度約100-180度即可

2.在涂光刻膠之前需要把涂有HMDS的硅片烘干冷卻后在涂光刻膠嗎？還是把涂有HMDS的硅片不烘干直接涂膠？

答：HMDS處理后需要冷卻后涂膠，但等待時間不能太長，過長處理效果會變差，建議4小時內(nèi)完成涂膠

3.在HMDS上面在滴光刻膠甩涂時，光刻膠內(nèi)的溶劑會不會又把HMDS層給破壞呢？

答：HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果

4.在顯影過程中硅片表面的HMDS層如何去除掉才能使被刻蝕的硅表面露出？

答：HMDS本身是表面改性，HMDS本身不會涂在園片表面，因此不用擔心去除HMDS層

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