等離子鍍膜（解釋:當光線進入不同傳遞物質(zhì)時)設備，高真空蒸發(fā)鍍膜儀，雙靶磁控濺射儀，3靶等離子濺射儀，射頻/直流等離子磁控濺射鍍膜儀。馬弗爐熱加工、工業(yè)工件處理、水泥、建材行業(yè),進行小型工件的熱加工或處理。馬弗爐功率
OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)(system)。此套系統(tǒng)極為理想-馬弗管式爐，爐結構pecvd管式爐此套設備帶有500W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個直聯(lián)式雙旋機械泵。對于有限的經(jīng)費的情況下來進行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。
PE-CVD（等離子體氣相沉積（sedimentation)）管式爐系統(tǒng)。智能馬弗爐煤質(zhì)分析：用于測定水分、灰分、揮發(fā)分、灰熔點分析、灰成分分析、元素分析。也可以作為通用灰化爐使用。此套設備帶有500W的等離子射頻（RF)電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個直聯(lián)式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD系統(tǒng)。馬弗爐結構對于有限的經(jīng)費的情況(Condition)下來進行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。
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