RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，是目前國(guó)際的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結(jié)構(gòu)；采用的、的SBCA晶體，實(shí)現(xiàn)X射線(xiàn)的單色掃描；采用小功率的X-Ray源，使研究試驗(yàn)室內(nèi)就能夠方便運(yùn)行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究，能夠獲得掃描范圍5keV-12keV，分辨率優(yōu)于1eV的譜線(xiàn)。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，將信號(hào)探測(cè)、掃描控制、數(shù)據(jù)顯示高度集成化，使用前只需簡(jiǎn)單的參數(shù)設(shè)置、校準(zhǔn)確認(rèn)，即可方便進(jìn)行研究試驗(yàn)。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，作為一種目前國(guó)際型的儀器，為各種材料研究分析拓展手段，用戶(hù)能夠在實(shí)驗(yàn)室就能隨時(shí)開(kāi)展研究，而不再受到條件限制?？蓮V泛應(yīng)用于各種材料研究分析領(lǐng)域，包括納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等。將成為材料研究必選設(shè)備。

v 產(chǎn)品特點(diǎn)(Features)

? 新原理新構(gòu)造：居于新原理和新構(gòu)造的X-ray光譜儀；

? 高分辨率：    采用的、的SBCA晶體作為核心器件，實(shí)現(xiàn)X射線(xiàn)單色掃描，分辨率達(dá)到1eV；

? 高品質(zhì)能譜曲線(xiàn)：與同步輻射相當(dāng)品質(zhì)的能譜曲線(xiàn)；

? 試驗(yàn)室儀器：  在試驗(yàn)室就可完成XAFS/XES的研究，不再受到條件限制；

? 高集成性：    儀器集成探測(cè)、控制、分析，軟件運(yùn)行于Windows操作系統(tǒng)；

? 應(yīng)用面廣：    納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等各種材料研

究分析領(lǐng)域

v 技術(shù)指標(biāo)(Specification)