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TDLS激光微量氣體分析儀 EDK 6900S系列

TDLS激光微量氣體分析儀 EDK 6900S系列

NH₃ /CH₄/HF /HCl /CO₂/H₂O等

原理

EDK系列產品采用增強型TDLS技術，0,1nm的掃描波長，避免目標被測氣體吸收波長的交叉干擾，也可稱為“指紋光譜"，可實現高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術實現從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息，此種檢測方法，不需要物理參考池，且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產品提供了高精度、低檢測限的解決方案，儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免標定、低成本、易操作等特點。

EDK TDL6900系列產品可以輕松測量一些常規(guī)方式不易測量的微量氣體，比如NH₃、CH₄、CO₂、H2O等，這些氣體的監(jiān)測與分析在很多工業(yè)場合至關重要。高靈敏度和寬的動態(tài)量程，是可調諧半導體激光器光譜（TDLS）技術的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。

典型應用	系列產品
√ CH₄甲烷垃圾填埋	EDK 6901 A – 大氣微量CH₄監(jiān)測
√ 生物氣/沼氣分析監(jiān)測	EDK 6902 A - 大氣微量CO₂監(jiān)測
√ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測	EDK 6903 A - 大氣微量 NH₃ 監(jiān)測
√ 逃逸排放	EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH₃監(jiān)測
√ 天然氣監(jiān)測與分析	EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測
√ 農業(yè)領域	EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O₂ (ECD)
√ 工業(yè)過程控制
√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx
√ 氣候變化研究
√ 環(huán)境研究
√ 呼吸分析

優(yōu)勢

· 超高靈敏度

· 功能安全、持續(xù)狀態(tài)報告

· 長壽命（+10年）

· 快速響應

· 低功耗

· 低成本方案（無耗材、備品備件、無需再標定）

· 優(yōu)秀的低成本元器件決定低成本傳感器

· 19"安裝支架

· 友好的人機界面

· 數據存儲與日志

· 可擴展的多點采樣系統(tǒng)

· 零點&寬量程校正

· 傳感器狀態(tài)自檢

技術參數

目標氣體	檢測限	典型量程
NH₃, (H₂O) 氨 ***
(高溫高濕工況)	0.8 ppm	0 – 20, 50, 100, (500) ppm
HCl, (H₂O) ***
(高溫高濕工況)	0.8 ppm	0 – 50, 100, (500) ppm
NH₃ 氨	0.4 ppm	0 – 100 (500) ppm
CH₄甲烷	0.4 ppm	0 – 100 (40'000) ppm
CO₂二氧化碳	4.0 ppm	0 – 1000 (300’000) ppm
* 其他氣體可定制
檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。系統(tǒng)溫度的突然變化導致的檢測限變化要快于濃度的變化，* 基于光譜原因，檢測限隨著高溫增加而會降低，比如 NH₃@ 190°C.
準確度	± 2%FS 根據積分穩(wěn)定性（溫度&壓力）而定
精度	根據氣體而定
零漂	超過兩小時每周期---在準確度內
量程漂移	超過八小時每周期---在準確度內
溫度誤差	< 0.1 讀數/°C
線性/重復性	< ± 2%
交叉干擾	由混合氣體定，或者根據實際工況
顯示分辨率	0.1 ppm
刷新率	1s (可設置，最多120 s)
T90時間	2s (@氣量3 L/min)
環(huán)境溫度補償	-10 ~65°C (盡可能小的溫度波動)
樣氣濕度	%濕度，根據工況，需要輸入標定，通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度，可定制
樣氣量	5(1)L/ min; 標定時3L/min
供電	VAC220-230/115 50/60 Hz
外殼	19’’ 標準機架安裝（深500mm）
防爆等級	ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制)
氣路接口	世偉洛克 Φ6 mm
測量方式	原位抽取
采樣泵	Internal內置
模擬輸出	4-20 mA 電流環(huán)(無隔離)
端口	Ethernet網口
顯示器	5.7" 觸摸屏
數據存儲	通過USB口