產(chǎn)品描述：

該爐由TL1200真空立式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)組成。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時真空度能夠達(dá)到10^-3Pa。該爐安裝有行程開關(guān)，當(dāng)爐蓋打開時會自動切斷電源，有效地保證使用者。該爐通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。廣泛應(yīng)用于各種薄膜的生長。

技術(shù)參數(shù)：

1.型號：TL1200-1400-1200-H-PE-I                        

2.各溫區(qū)額定溫度：?1100℃  ?1300℃ ?1100℃

3.爐管長度：Φ60X2700mm                            

4.各溫區(qū)*高溫度：?1200℃ ?1400℃ ?1200℃

5.功率：6KW                                          

6.電壓：220V                                          

7.各溫區(qū)加熱段：200mm+200mm+200mm                    

8.升溫速率：≤30℃/min

9.加熱元件：??瑞典康泰電阻絲?硅碳棒              

10.各溫區(qū)熱電偶：?K型   ?S型  ?K型  

11.溫控方式：智能化30段可編程控制                      

12.真空法蘭和接頭：詳細(xì)參數(shù)請轉(zhuǎn)看第31頁

13.質(zhì)量流量計(jì)：詳細(xì)參數(shù)請轉(zhuǎn)看第31頁  

14.射頻電源：詳細(xì)參數(shù)請轉(zhuǎn)看第31頁

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