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高低溫一體機(jī)(導(dǎo)熱油)規(guī)格型號(hào)GDX-100/30主要技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品圖使用溫度范圍-30℃至200℃環(huán)境溫度
GDX-50-20技術(shù)參數(shù)
加熱循環(huán)器技術(shù)參數(shù):型號(hào)MF-LRV-3030控制器7寸彩色觸摸屏通信RS485MODBUSRTU協(xié)議控溫范圍50℃~300℃電氣德力西換熱器所有導(dǎo)熱介質(zhì)進(jìn)入板...
-KF1700四面加熱馬弗爐-這款馬弗爐以U型硅鉬棒為加熱元件,布置在爐膛的前后左右四面
-KTF1700混合爐-這款混合箱式爐以U型硅鉬棒為加熱元件,既可以當(dāng)普通箱式馬弗爐使用,也可以當(dāng)管式爐使用
智能高溫灰分爐一、適用范圍GW-300C型智能馬弗爐是高性能機(jī)電一體化的新一代智能產(chǎn)品,適用于煤炭、電力、化工、冶金、水泥、地質(zhì)勘探和醫(yī)藥、科研、食品、塑料等行...
項(xiàng)目名稱內(nèi)容概要高真空燒結(jié)退火系統(tǒng)ZK-40-16設(shè)備主要功能及組成:高真空高溫?zé)Y(jié)系統(tǒng)主要功能:在高真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下,對(duì)樣品進(jìn)行工藝熱處理(燒結(jié)、退火等)
超高真空熱處理爐用途1.將金屬件放在退火爐內(nèi)緩慢加熱到一定溫度,保溫一段時(shí)間,然后以適宜速度冷卻(通常是自然冷卻)的一種金屬熱處理工藝
真空磁懸浮熔煉爐VLF-90主要技術(shù)參數(shù)一、真空磁懸浮熔煉爐設(shè)備特點(diǎn)1、采用臥式爐體,側(cè)部開門結(jié)構(gòu),進(jìn)出料方便,爐體結(jié)構(gòu)緊湊,占地空間較小
一設(shè)備特點(diǎn)1、采用臥式爐體,側(cè)部開門結(jié)構(gòu),進(jìn)出料方便,爐體結(jié)構(gòu)緊湊,占地空間較小
1500度真空鉬絲爐帶防爆一、設(shè)備特點(diǎn)及主要用途基本原理與用途:在真空或氣氛保護(hù)情況下對(duì)物料進(jìn)行無污染熱處理的設(shè)備,可以在氮?dú)?、氬氣,氫氣等氣氛下燒結(jié)
1500度真空鉬絲爐一、設(shè)備特點(diǎn)及主要用途基本原理與用途:在真空或氣氛保護(hù)情況下對(duì)物料進(jìn)行無污染熱處理的設(shè)備,可以在氮?dú)?、氬氣,氫氣等氣氛下燒結(jié)
本公司生產(chǎn)的KF、TL、RTL、VTL、CVD、PECVD、GF、VF、SJF、VSF系列電阻爐均采用雙層殼體結(jié)構(gòu),標(biāo)配30段程序控溫系統(tǒng),爐膛采用氧化鋁多晶纖...
本公司生產(chǎn)的KF、TL、RTL、VTL、CVD、PECVD、GF、VF、SJF、VSF系列電阻爐均采用雙層殼體結(jié)構(gòu),標(biāo)配30段程序控溫系統(tǒng),爐膛采用氧化鋁多晶纖...
本公司生產(chǎn)的KF、TL、RTL、VTL、CVD、PECVD、GF、VF、SJF、VSF系列電阻爐均采用雙層殼體結(jié)構(gòu),標(biāo)配30段程序控溫系統(tǒng),爐膛采用氧化鋁多晶纖...
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本公司生產(chǎn)的KF、TL、RTL、VTL、CVD、PECVD、GF、VF、SJF、VSF系列電阻爐均采用雙層殼體結(jié)構(gòu),標(biāo)配30段程序控溫系統(tǒng),爐膛采用氧化鋁多晶纖...
本公司生產(chǎn)的KF、TL、RTL、VTL、CVD、PECVD、GF、VF、SJF、VSF系列電阻爐均采用雙層殼體結(jié)構(gòu),標(biāo)配30段程序控溫系統(tǒng),爐膛采用氧化鋁多晶纖...
這款TL1200滑竿式PECVD系統(tǒng)是一款能夠快速加熱、冷卻PECVD系統(tǒng),是在PECVD系統(tǒng)上安裝一對(duì)滑軌,可用手動(dòng)滑動(dòng)系統(tǒng)
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