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工業(yè)自動(dòng)化四大技術(shù)挑戰(zhàn)

時(shí)間:2017-2-14閱讀:220
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為了協(xié)助業(yè)界人士加速實(shí)現(xiàn)相關(guān)解決方案,本文除針對工業(yè)自動(dòng)化目標(biāo)市場的隔離應(yīng)用,專注于可編程邏輯控制器(plc)和工廠自動(dòng)化的發(fā)展進(jìn)行詳細(xì)的市場與技術(shù)分析外,也詳細(xì)說明了新型互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)數(shù)字隔離器相較于傳統(tǒng)光耦合隔離方案對工業(yè)自動(dòng)化應(yīng)用所帶來的顯著優(yōu)勢。

  工業(yè)自動(dòng)化的發(fā)展道路上,所包含的許多技術(shù)挑戰(zhàn)包括:

  *:設(shè)備安全無法妥協(xié)

  . 安全功能至關(guān)重要。

  . 產(chǎn)品在高應(yīng)力下性能必須穩(wěn)定。

  第二:高噪聲環(huán)境中的正常工作

  . 工廠外部電/磁場的抗干擾性高。

  . 高電壓瞬變噪聲的抗*力強(qiáng)。

  第三:產(chǎn)品使用壽命長

  . 整個(gè)溫度范圍,不同VDD電壓,以及*使用時(shí),關(guān)鍵參數(shù)必須穩(wěn)定。

  . 在高應(yīng)力下產(chǎn)品使用壽命長。

  第四:高性能

  . 產(chǎn)品性能必須世界*。

  . 低延遲和低延遲偏差以確保率和吞吐量。

  基于上述的技術(shù)挑戰(zhàn),適用于工業(yè)自動(dòng)化的高性能隔離產(chǎn)品也必須是高安全,高抗干擾性與長壽命。 工廠存在很多高壓設(shè)備,透過隔離方案不僅能保護(hù)電子系統(tǒng)和人員,也能抑制噪聲以確保設(shè)備的可靠度和穩(wěn)定性。 隨著工業(yè)自動(dòng)化應(yīng)用對相關(guān)設(shè)備的性能要求提升,內(nèi)建隔離技術(shù)也開始發(fā)生轉(zhuǎn)變,傳統(tǒng)的隔離使用光耦合技術(shù),由于先天的特性逐漸難以滿足工業(yè)自動(dòng)化設(shè)計(jì)需求,包括可靠性較差、時(shí)序特性不佳、無余裕的共模瞬態(tài)噪聲免疫(CMTI)、能源效率低等,使業(yè)界開始將目光移至新型的CMOS電容耦合數(shù)字隔離器方案。

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